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高质量非晶金刚石薄膜的制备研究.pdf
35卷第1期 人 工 晶 体 学 报 v01．35No．1
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高质量非晶金刚石薄膜的制备研究
闫鹏勋，李晓春，李 春，崇二敏，刘 洋，李 鑫，徐建伟
(兰州大学等离子体与金属材料研究所，兰州730000)
摘要：利用自行研制的磁过滤等离子体技术(FCAP)，并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压，在室温下的单
晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)，原子力显微镜(AFM)，红外吸收光谱
(IR)，纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征。实验结果表明：制备的非晶金
近金刚石的硬度；薄膜摩擦系数t0．12～0．16之间。文中也讨论了偏压类型对沉积薄膜结构的影响。
关键词：磁过滤等离子体；非晶金刚石膜；周期性偏压；性能
中图分类号：TGl74．44 文献标识码：A
of Films
onthe Diamond
InvestigationPreparationHighQuamyAmorphous
YAN Xdao—chun，LIChun，CHONGEr—min，LIU Xin，XUJian—wei
Pe昭一批n，LI y口愕，LI
forPlasmaandMetal
Materials，Lallzhou
(Institute University，Lanzhou730000，China)
27
June
(Received2005)
DLCfilmswere onthesurfaceofsiliconsubstratesat
Abstract：The deposited
hiighquality successfully
loom thefilteredcathodicarc resultsshowthatthe
temperatureby plasma(FCAP)equipment．The
substratebias acrucialroleinthe inDLCfilmandSOaffectsthe ofthefilms．
plays sp3component quality
ofAFMandIR demonstratethatthefilmsareof characteristicofDLC．The
Analysis spectrum typical
DLCfilmshaveexceHentmechanical hardnessis74．8Paandfrictioncoefficientis
properties，whose
for film
betterthansubstratema
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