氧化钇掺杂铁薄膜的制备及热稳定行为.pdf

第27卷第3期 深圳大学学报理工版 V01．27No．3 OF 2010年7月 JOURNALSHENZHENUNIVERSITYSCIENCEANDENCrNEERINC Julv20lO 文章编号：1000-2618(2010)03．0273—04 【化工与化学】 氧化钇掺杂铁薄膜的制备及热稳定行为 李正操，余晓毅，苗 伟，马 天，张政军 (清华大学材料科学与工程系，新犁陶瓷与精细工艺国家重点实验室，北京100084) 摘要：为研究氧化钇掺杂强化在薄膜中的应用，通过双靶磁控共溅射方法，制备了氧化钇弥散铁薄 膜，利用x射线衍射仪、x射线荧光光谱仪、扫描电子显微镜和纳米压痕仪表征其结构、成分、形貌和纳 米硬度．采用真空封管退火技术对薄膜进行热退火处理．实验结果表明，成功制备的铁基薄膜钇、氧元素 弥散程度较好，在500℃真空退火处理后，铁薄膜的纳米硬度显著提高；随着氧化钇掺杂量的增多。纳米 硬度增长率提高．该真空热处理方法为改善氧化物弥散强化合金的力学性能提供了借鉴． 关键词：纳米材料；弥散强化薄膜；铁薄膜；氧化钇；真空退火；纳米硬度 1 中图分类号：TG 文献标识码：A 氧化物弥散强化(oxide dispemionstrengthened，靶枪上，氧化钇靶装配在射频靶枪上．基底的选择 ODS)合金是目前的研究热点．采用超细(50采用(001)单晶硅片．铁靶正对着硅基底，氧化 nm)氧化物质点对基体进行强化，可使合金具有 钇靶与铁靶成1200夹角，侧对着硅基底． X 优良的高温强度和抗溅射性能，成为快增殖堆、聚 首先，将溅射室腔本底气压抽至2 10一Pa， 变堆结构的候选材料¨引．Fe基ODS合金抗高温蠕然后，通入高纯(99．9％)氩气作为溅射气体．溅 000 变、抗氧化，能在l oC以上环境中使用，可用 射过程采用气体流量计动态控制和监测氩气气压， 作能源转换系统相关部件和气轮机、柴油机舱的材 使其稳定在1．5Pa，薄膜沉积过程中保持衬底接地 料旧o，其比重较小，价格低廉H J．Y：O，熔点较高、 且不加热．具体镀膜参数见表l，调控氧化钇与铁 带隙较宽、机械强度和硬度都较高”]，有很好的热 的功率比，分别取o、0．4、0．8和1．6，从中获得4 稳定性和化学稳定性．通过氧化钇掺杂可改善铁薄 组不同镀膜参数的样品． 膜的抗高温、抗溅射以及抗氧化性能∞4J．机械合 表1双靶磁控溅射镀膜参数 金化(mechanical alloying，MA)技术使ODS高温 Table1 Parametersof double·targets 合金有了快速发展，相继研制成功了MA753、 magnetronsputteringexperiments MA754、MA6000和MA956等有代表性的ODS高温 合金∽J．本研究采用双靶磁控共溅射法制备氧化钇 掺杂铁薄膜，并对其性能进行分析． 1 薄膜制备与结构形貌表征 1．1样品制备 本研究采用沈阳中科仪JGP-450型超高真空多 功能磁控溅射设备制备氧化钇掺杂铁薄膜．磁控溅 1．2氧化钇弥散铁薄膜成分分析 射靶材选用水冷却的金属铁靶和氧化钇靶(直径均 采用日本岛津公司生产的x射线荧光分析仪 为30mm，纯度为99．9％)，其中铁靶装配在强磁 (X—ray 收稿日期：20