原子层淀积Al2O3薄膜的热稳定性研究.pdfVIP

第 卷 第 期 无 机 材 料 学 报 从 , 年 月 , 文章编号 一 一 原子层淀积 薄膜 的热稳 定性研 究 卢 红 亮, 徐 敏 , 丁 士 进 , 任 杰 , 张 卫 复旦 大 学微 电子 学 系 与 系统 国 家重 点实验 室 , 上 海 , “ 摘 要 以 和 为反应源 在 下用原子层淀积 技术在 衬底上生 长 了 薄膜 采用 射线衍射 、 射线光 电子能谱 、 原子力显微镜 和 傅立 叶变换红外光谱 等分析手段对 薄膜 的热稳定性进行 了研 究 结果表 明刚 积 的 中含 有 一 基 团 , 高温退火 , 一 团几 , 归 因于 一 淀 薄膜 少量 后 基 乎消失 这 基 团之 间发生反应而脱水 退火后 的薄膜 中 和 元素的相对 比例 比退火前 的 更 接近化学计量 比的 分析表 明, 在 刚淀积 的 中有少量 的 一 存在 , 一 含量会 随热处理温度 的升高而减少 此外 , 在高温快速热退火后 , 薄膜 的表面平均粗糙 度 明显改善 , 热退火后其 达到 关 键 词 薄膜 原子层淀积 射线光 电子能谱 中图分类号 , 文献标识码 引言 原子 层 淀积 技术是 一种把反 应 的分 子源 交 替脉 冲地暴 露在衬底 表 面 , 周 期性地 生 长 薄膜 的工 艺 在 分子 源脉 冲 的 间隔 , 用 一种 惰 性气体把 多余 的反 应源 以及 反 应 生成 的 副产 物 吹洗 出反应腔 生 长薄膜具有许 多潜在 的优 点 薄膜 的组成和 厚度 能够 达 到 原 子 层 级控 制 , 在 大 面 积 范 围 内保持薄膜 厚度 的均 匀性 , 具有 良好 的 台阶覆盖性 能 , 可 以得 到 清 晰 的界 面 此 外 , 技术所 需 的反 应 温度 较 低 , 一般在 , 因此 是 一种很 有发 展 前 景 的薄膜制备方法