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大气压下冷等离子弧制备SiO_x涂层超疏水表面.pdf
真空科学与技术学报 第30卷第1期
OFVACUUM
CH刑ESE SCIENCEANDTECHNOLOGY 2010年1、2月
JOURNAL
大气压下冷等离子弧制备SiOx涂层超疏水表面
周 振1 陈 强1’ 刘福平1任兆杏2
(1．北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室北京102600；
2．合肥研飞电器科技有限公司合肥230088)
ColdPlasma
SiOxSuperhydrophobicCoatingsDepositedby
Arcat Pressure
Atmospheric
Zhou
Zhenl，Chen
Qian91’，LiuFuping．1，RenZhaox《
and
(1．LaboratoryofPlasmaPhys赴sMaterials，蜘InstituteofGraphicCommlulication，蚍，102600，China；
and 23(D88，CHina)
2．心觎蚴Electric却脚Sck,nceTechnologyCo．，Ltd，Hefei
AbstractThe were cold arc at
SiOx coatings
superhydrophobicgrownby plasmadepositionatmosphericpressure
themonomer．Theofthefilm thenozzle-
with(cn3)3SiOSi(CH3)3(HMDSO)asimpacts growthconditions，including
of
substrate rate the themicrostructuresand ofthefilmwere
distance，flow monomer，anddepositiontime，on properties
studied．Thesurface and ofthe werecharacterizedwitllFouriertransforminfrared
morphologieshydrophobicitycoating
force andotherconventional resultsshow
spectroscopy(mR)，atomicmicroscopy(ArM)，opticalmicroscopy probes．The
thatthe awatercontact than be underthe
SiOx 1600，candeposited
superhydrophobiecoatings，with anglehigher optimized
nozzle—substratedistanceof10am．amonomerflowrateof90mL·min一1
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