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低温生长纳米ZnO薄膜的结构(论文资料)

V o l. 30 N o. 5 华 东 理 工 大 学 学 报      200410 Journal of East Ch ina U niversity of Science and T echno logy      609 研究简报   文章编号:(2004) 低温生长纳米 ZnO 薄膜的结构 陆 慧 ,  陆元成,  张 波,  张月兰,  潘孝仁 (华东理工大学物理系, 上海 200237)   摘要: 采用气体放电活化反应蒸发技术(GDA R E ) , 以玻璃为衬底, 在较低的温度下沉积纳米 ZnO 薄膜, 用二次蒸镀法克服薄膜生长饱和问题、有效增加膜厚及改善薄膜质量。讨论了 GDA R E 法低温下沉积纳米 ZnO 薄膜的生长过程及成膜机理。由原子力显微镜(A FM ) 和X 射线衍射谱 (XRD ) 分析薄膜表面形貌和晶体结构, 研究结果表明, 二次蒸镀法沉积的双层纳米 ZnO 薄膜具有 更好的结晶质量及长期稳定性, 薄膜沿 轴高度取向生长, 内应力较小, 晶粒尺寸均匀, 平均粒径约 c 35 nm , 表面粗糙度降低。 关键词: 纳米 ZnO 薄膜; 沉积; 表面形貌; 晶体结构; 应力 中图分类号: O 484. 4 文献标识码: A Structure of Nanom eter ZnO F ilm s Grown at L ow Tem perature ,   ,   ,   ,   L U H u i L U Y uan cheng ZH A N G B o ZH A N G Y ue lan PA N X iao ren ( , 200237, ) D ep a rtm en t of P hy sics ECU S T S hang ha i Ch ina Abstract: N anom eter ZnO film s grow n at low tem peratu re w ere depo sited on glass sub strates by gas . , discharge reaction evapo ration By tw ice depo sited the p rob lem of film grow ing satu ration cou ld be so lved the film th ickness effectively increased and film quality be im p roved. T he grow n m echan ism of ZnO film s w as discu ssed. T heir su rface m o rpho logy and crystal structu re w as studied by atom ic fo rce m icro scopy ( ) ( ). A FM and X ray diffractio

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