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蓝宝石晶片表面净化技术研究
电 子 机 械 工 程 2005年第 2 1卷第 6期
42 Electro - M echan ica l Eng in eer in g 2005. Vol. 2 1 No. 6
蓝宝石晶片表面净化技术研究
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周 海 ,杭 寅 ,姚绍峰
( 1. 盐城工学院机械工程学院 , 江苏 盐城 224003; 2. 中国科学院上海光学
精密机械研究所 , 上海 20 1800; 3. 兴化祥盛光电子材料公司 , 兴化 2257 16)
摘 要 :阐述了在氮化镓生长中使用的蓝宝石晶片净化的重要性 。论述了蓝宝石晶片的净化原理 。通
过净化试验研究 ,提出了适合于工业化生产的蓝宝石晶片清洗剂和净化工艺 ,满足了光电子领域所需的
开盒即用的蓝宝石晶片表面质量要求 。
关键词 :蓝宝石晶片 ;净化工艺 ;清洗剂
中图分类号 : TH 16 1, TN 205 文献标识码 : B 文章编号 : 1008 - 5300 (2005) 06 - 0042 - 04
A Study on the Cleaning Technology for Sapphire W afer
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ZHOU H a i , HAN G Yin , YAO Sh ao fe n g
( 1. D ep a rtm en t of M echan ica l E ng ineering, Yancheng Ins titu te of Technology, Yancheng 224003, Ch ina;
2. S hang ha i Ins titu te of Op tics and F ine M echan ics, Ch inese A cadem y of S ciences, S hang ha i 20 1800, Ch ina;
3. X ing hua X iangsheng Op toelectron ic M a terica l Co. , L td, X ing hua 2257 16, Ch ina)
A b stract: The sign ificance of sapp h ire wafer clean ing in grow ing of GaN is exp lained. The clean ing p rincip le
of sapp h ire wafers is d iscu ssed. The clean ing so lu tion and techno logy of the sapp h ire wafer su itab le for indu s
trial p roduction are p re sen ted and varified by clean ing exp erim en ts. Sapp h ire wafer can be u sed in p hotoelec
tron ic s w ithou t reclean ing by th is m ethod.
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