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制备条件和退火处理对Fex(In2O3)1-x颗粒膜结构、磁性及巨磁电阻的影响.pdf
642 2003 年第6 期（34 ）卷
制备条件和退火处理对Fe / （In 0 ）
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颗粒膜结构、磁性及巨磁电阻的影响＊
黄宝歆，刘宜华，王军华，张 林，张汝贞，梅良模
（山东大学 物理与微电子学院，山东济南250100 ）
摘 要： 用射频溅射法成功制备了金属/ 半导体型颗粒膜Fe 片，在其表面按均匀分布镶嵌纯度为99% 的Fe 片，通过改变二
!
（In 0 ） 。实验结果表明样品的微结构、磁性和巨磁电阻效 者的面积比来控制颗粒膜中Fe 的体积分数。样品台和靶的距
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应受制备条件（如本底真空度、衬底温度、溅射电压等）以及热 离约为4cm ，二者均采用水冷。当真空室抽至一定的本底高真
退火处理的强烈影响。较高的衬底温度有利于基体In 0 的晶 空后，充入纯度为99 . 999% 的氩气进行溅射。溅射期间，氩气
2 3
化和Fe 颗粒的成长。适当的热退火能促使Fe 颗粒生长，使晶 压由压强自动控制仪稳定于0 . 7pa ，溅射功率为200W 。采用厚
格畸变减小，从而改善膜的微结构。室温下，磁性测量表明样品 度为0 . 2mm 的玻璃片作为衬底。沉积速度为0 . 15nm/ s ，每次
具有超顺磁性，符合朗之万方程。高温退火后，颗粒的大小已超 均预溅15min 。制成的颗粒膜成分以Fe （In 0 ） 表示，其中
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过单畴粒子的临界尺寸，引起矫顽力下降。 ! 为Fe 的体积分数。
关键词：
微结构；超顺磁性；巨磁电阻；Fe-In 0 颗粒膜
2 3 采用X 射线衍射（XRD ）、电子衍射（ED ）、透射电子显微镜
中图分类号：
Tg132 文献标识码：A （TEM ）分析样品的物相结构和形态特征。用于透射电镜观察
文章编号：1001-9731（2003 ）06-0642-03 的样品大约50nm 厚，镀在铜网支持的碳膜上。用能散X 射线
1 引 言 谱（EDAX ）分析样品成分。磁化曲线采用振动样品磁强计
（VSM ）测量，磁场范围从0 ~ 1T 可调；采用超导量子干涉磁强
自从 Baibich 等人在 Fe/ Cr 多层膜发现巨磁电阻现象 计（SOUID ）测量样品在5 ~ 300K 温度范围内的低场磁化率和高
（gMR ）以来，与自旋相关的电子
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