CVD金刚石膜的抛光研究进展.pdf

第 卷第 期 硬 质 合 金 年 月 25 3 2008 9 Vol.25No.3 CEMENTEDCARBIDE Sep.2008 !!!! ! 综合评述 ! !!!! CVD金刚石膜的抛光研究进展 * 吴振辉 马志斌 谭必松 张 磊 吴利峰 武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北武汉 ( 430073) 摘 要 化学气相沉积的金刚石膜表面一般比较粗糙,需要经过抛光才能实现其具体 的工业应用。本文介绍了各种抛光CVD金刚石膜的方法及近来研究进展,分析了各种 技术的优缺点,并结合工业应用对CVD金刚石膜的抛光前景作了展望。 关键词 CVD;金刚石膜;抛光 化学气相沉积 的金刚石膜具有与天然金 年来国内外在 金刚石膜抛光方面取得的进展, (CVD) CVD [1] 刚石相同或相近的理化性质 ,但其普遍存在厚度 并结合工业应用,对金刚石膜的抛光前景作了展望。 不均匀、晶粒大小不一、表面较粗糙等缺点,且粗糙 度随膜厚的增长而增加。表面粗糙度和厚度的不均 1CVD金刚石膜抛光方法 匀性严重制约了金刚石膜在工业生产中的应用:如 用作切削刀具表面的超硬涂层时,切削面的粗糙度 1.1机械研磨法 对切削效率和被加工面的粗糙度、平整度以及尺寸 机械抛光是一种相对简单直接、且目前仍在国 精度等都有直接影响[2];用作集成电路及一些高功 内外广泛使用的传统抛光方法。它利用游离磨料(通 率元器件的散热材料时,表面的不平整直接影响金 常为金刚石粉)或金刚石砂轮与金刚石膜表面接触 刚石膜与散热面的接触面积及散热效果[3];用作光 产生较大的摩擦力,使金刚石膜表层发生变形直至 学窗口时粗糙的表面会引起窗口表面光的散射,从 碳键断裂形成碎屑脱落,从而达到去除材料的目的。 [4] 该方法具有设备简单、费用低廉、能抛光大面积金刚 而降低了光的透射率 等等。因此,抛光成为了实现 CVD金刚石膜工业应用的一道必不可少的工序。 石膜等优点;其主要缺点包括加工效率低下、微观表 由于金刚石膜硬度高、厚度薄、整体强度低,许 面易留下划痕和膜表层下存在微裂纹等,微裂纹的 多抛光金刚石膜的方法效率低,薄膜极易损伤且产 存在是由机械抛光本身的特点决定的,虽可以改善, 生微裂纹,因此,如何有效、低损伤地抛光金刚石膜 但不能消除。 [13] 已成为扩大CVD金刚石膜应用的关键性课题。 严朝辉等 专门研究了金刚石磨粒的粒度大小 国内外除采用一些常用的抛光方法,如机械抛 对CVD金刚石厚膜研磨的影响,发现研磨前期采用 光[5] [6] [7] 较大颗粒的金刚石微粉研磨可以达到很高的去除 、化学辅助机械抛光 、热化学抛光 、等离子体刻 [8] [9] [10]