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金刚石自支撑膜衬底制备AlN薄膜的性能
3 2 8 材 料 热 处 理 学 报
第 卷 第 期 Vol ． 3 2 No ． 8
2 0 1 1 年 8 月 TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT August 2 0 1 1
金刚石自支撑膜衬底制备AlN 薄膜的性能
， ， ， ， ，
张营营 李成明 陈良贤 刘金龙 黑立富 吕反修
( ， 100083 )
北京科技大学材料科学与工程学院 北京
: AlN ，XRD (002 ) AlN
摘 要 采用射频磁控反应溅射法在金刚石自支撑膜衬底上沉积了 薄膜 结果表明得到了 面择优取向的 薄
;AFM ， ， 2. 97 nm 。XPS ， 2. 1 nm Al / N
膜 的表面形貌结果显示薄膜表面平整 晶粒均匀 表面粗糙度为 分析结果表明 离子剥蚀 后 原
1∶ 1 ; ， AlN 1500 ～ 800 cm － 1 14 %
子百分比接近于 结合红外透过曲线和纳米力学探针测试 表明 薄膜在 波段对金刚石膜有约 的增
， 2 1. 5 GPa ， 233. 3 GPa 。
透作用 其平均硬度为 平均弹性模量为
: ; ; AlN ;
关键词 射频磁控反应溅射 金刚石自支撑膜 增透性
中图分类号:TB383 ;O484 . 4 文献标志码:A 文章编号:1009 -6264 (20 11)08-000 1-05
Properties of AlN film deposited on free-standing diamond film
ZHANG Ying-ying ， LI Cheng-ming ， CHEN Liang-xian ， LIU Jin-long ， HEI Li-fu ， L Fan-xiu
(School of Materials Science and Engineering ，University of Science and Technology Beijing ，Beijing 100083 ，China)
Abstract :AlN film was deposited on diamond film by RF reactive magnetron sputtering ． The XRD spectrum shows that AlN is (002 )plane
preferential orientation ． The results of AFM indicate that the surface of the film is smooth ，the grain is uniform and the roughness is 2. 97
nm ． XPS analysis reveals that A
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