种植体支抗和传统牙支抗上颌前牵引的三维有限元分析.pdf

·中文摘要· 种植体支抗和传统牙支抗上颌前 牵引的三维有限元分析 目的 本研究的目的是应用颅面复合体有限元模型来模拟上颌前牵引，通过应用骨 支抗和牙支抗的比较，来明确应用骨支抗和牙支抗进行前牵引时所引起颅面复合 体的位移和应力分布差异，为临床寻找适宜的前牵引方向和牵引部位奠定理论依 据。 方法 本研究的颅面复合体几何模型来自一名12岁男性患者，采用64排螺旋CT机对 其颅面复合体区进行扫描，扫描的数掘进行三维重建。重建后的几何模型输入 MSC．Warc@软件中进行六面体网格划分，划分网格后的模型被输入至1]Abaqus软 件，颅面复合体中骨松质、骨密质和牙齿被赋予材料属性，并将材料定义为线弹 性且各向同性。在枕骨大孔周围的节点上施Dno位移和0旋转的边界条件，同时在 对称平面上的颅骨其他节点建立约束。本研究分别在颅面复合体的后部和前部加 载，其中后部在两个区域分别加载，即左右上颌第一磨牙区(模拟磨牙支抗，简 写为Mo)和左右颧牙槽嵴区(模拟颧牙槽嵴区种植体支抗，简写为ZY)；前部也 在两个区域分别加载，左右尖牙近中(模拟牙支抗，简写为Cus)和左右鼻翼区 (模拟鼻翼区种植体支抗，简写为Na)。前牵引力的方向为向前下与合平面分别 成角0。、10。、20。和30。，力的大小为1000克力。前部与后部分别进行分析， 每一部均分为8种工况。颅面复合体的后部为Mo一0、Mo一10、Mo一20、Mo一30、Zy—O、 Cus一30、Na一0、Na一10、Na一20并lJNa一30共8利l工况。 挂 里 =口 木 1．不同加力方向下颅面复合体位移重叠图 在颅面复合体后部，不论是磨牙支抗模型还是颧牙槽嵴区种植体支抗模型， 牵引方向为0。和10。时颅面复合体均发生逆时针旋转，N20。时，磨牙支抗模型 仍发生逆时针旋转，而颧牙槽嵴区种植体支抗模型则已发生轻微顺时针旋转：至 30。时，两模型均发生明显顺时针旋转，并以颧牙槽嵴区种植体支抗模型旋转更 多。 在颅面复合体前部，0。--IO。时尖牙支抗模型颅面复合体发生逆时针旋转， 10。--20。逐渐由逆时针旋转变为顺时针旋转，至30。时已发生明显顺时针旋 转；而鼻翼区种植支抗模型在o。时颅面复合体发生轻微逆时针旋转，至10。时已 发生较明显顺时针旋转，到20。时已发生明显顺时针旋转，至30。时发生严重顺 时针旋转。 2．腭平面和合平面标志点在垂直向的位移 在颅面复合体后部，不论是磨牙支抗模型还是颧牙槽嵴区种植体支抗模型， 0。时垂直向位移均向上；10。时磨牙支抗模型各点的垂直向位移均向上，而颧 牙槽嵴区种植体支抗模型的u1和ANS向上移动，而第一恒磨牙腭尖和PNS向下 移位；到20。时，颧牙槽嵴区种植体支抗模型各点位移均轻微向下，且接近20。 时交于一点，磨牙支抗模型的u1和ANS位移向上，而第一恒磨牙腭尖和PNS的 位移向下；至30。时各模型垂直向位移均向下，且稍大于30。时，磨牙支抗模 型的各点连线交于一点。 在颅面复合体前部，0。时尖牙支抗各标志点垂直向位移均向上，而种植支 抗模型则呈现U1和ANS位移向上，而第一恒磨牙腭尖和PNS向下，并与稍大于0。 处交于一点；10。时种植支抗模型位移均向下，而牙支抗的UI禾[IANS为明显『F向 位移，而第一恒磨牙腭尖和PNS趋向为0；N20。时，各模型位移均向下，牙支抗 模型各标志点连线交于一点；至30。时，各模型位移均向下，而以种植支抗模型 更为严重。 3．面前部标志点在近远中向的位移 ’ 在颅面复合体后部，牵引方向在0。--20。时，不论是磨牙支抗模型还是颧牙槽 嵴区种植体支抗模型各标志点近远中向位移均向前(负值)，并随着角度的增加逐 渐减小，且同一角度下，磨牙支抗模型较颧牙槽嵴区种植体支抗模型前移更多， 其中颧牙槽嵴区种植体支抗模型在20。时，各标志点连线最接近交于一点；至 30。时，种植支抗模型标志点的位移方向已均变为向后(正值)，而磨牙支抗模型 在稍大于30。时各标志点连线近似交于一点。 在颅面复合体前部，牵引方向0。时除了牙支抗组N点出现极少量的向后移 动，其余均向前