溶液雾化微波等离子体CVD法制备SrTiO3薄膜.pdf

第 卷第 期 硅 酸 盐 学 报 ， 30 3 VOI.30 NO.3 年 月 ， 2 0 0 2 6 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY June 2002 !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! ## 简 报 溶液雾化微波等离子体CV 法制备SrTiO3 薄膜 # # 季惠明，徐廷献，徐明霞 （天津大学高温结构陶瓷及工程陶瓷加工技术教育部重点实验室，天津 300072） 摘 要：研究了一种新型高效制备多组分陶瓷薄膜的方法，它采用可溶性无机盐溶液雾化为反应源，利用微波等离子体化学气相沉积工艺在 AI O 基片上制备了SrTiO 基陶瓷薄膜 实验结果表明，薄膜沉积时衬底温度对成膜的相组成与结构产生重要影响 本实验中当沉积薄膜衬. . 2 3 3 底温度在700 C时，可以制备出单一相组成、符合化学计量比、结晶性较好、晶粒度呈球形且均匀分布的SrTiO3 薄膜 通过对不同氧分压下薄. 膜电阻测试，发现此 薄膜在 气氛中氧浓度由 变化到 时，其电阻值由 变化到 ，从而显示出一定氧敏性 SrTiO O + N 1 20 5.0 M! 2.5 M! 3 2 2 能. 关键词：微波等离子体；化学气相沉积；钛酸锶；薄膜；氧敏 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） TB43 A 0454-5648 2002 03-0398-04 PREPARATION OF SrTiO THIN FILM SOLUTION MIST 3 SOURCE MICROWAVE PLASMA CV METHO I Huimin ，X U Tin xian ，X U Min xia g g g （ Ke LabOratOr fOr Hi h Tem erature Structure Ceramics and Machinin TechnOIO y y g p g gy ， ， ） Of Ministr Of Ed