Ni-Al-V合金L12相间有序畴界面的微观相场模拟.pdfVIP

第43卷 第10期 No．10 金属学艟Vjl_43 ACTAMETALLURGICASINICAOct．2007 2007年10月第1101—1106页 PP．1101—1106 Ni—Al—V合金L1。相间有序畴界面的微观相场模拟 张明义-) 王永欣，) 陈铮-，。) 张静·) 赵彦-)甄辉辉-) 11西北工业大学材料学院，西安710072 2)西北T业大学凝固技术国家重点实验室，西安710072 摘 要 利用微观相场动力学模型模拟Ni—Al—V合金沉淀过程中L12(NiaAl)相闻有序畴界面．对界面结构及其界面处原 子的行为进行了研究．结果表明：L12相问存在3种稳定的平移界面以及2种过渡界面；界面的证移性与界面结构有关，一个 定界面可以迁移，j壬移前后界面结构保持不变，迁移的过程中形成过渡界面；而【100)和(200)对应且有一十Ni原子面的稳定