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  • 2015-10-07 发布于重庆
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新型半导体清洗剂的清洗工艺

第 卷第 期 半 导 体 学 报 ! # ’!( ’# $% )% 年 月 !**! # (!**! +,-)./.0123)4516/.7-+1)82+913/ 0:; 新型半导体清洗剂的清洗工艺= 曹宝成 于新好 马洪磊 山东大学光电材料与器件研究所 济南 ( !E*A**B 摘要 报道了利用红外吸收谱 射线光电子谱和表面张力测试仪对新型半导体清洗工艺进行研究的结果 采用 ?

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