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甚高频磁控溅射放电等离子体特性的研究 中文摘要 II III 甚高频磁控溅射放电等离子体特性的研究 中文摘要 甚高频磁控溅射放电等离子体特性的研究 中文摘要 磁控溅射是一种重要的薄膜沉积技术。在过去几十年中，磁控溅射技术得到快速 发展，特别是非平衡磁控溅射技术的发展使得磁控溅射沉积薄膜得到广泛应用。近年 来甚高频 （VHF ）磁控溅射在沉积具有良好结晶结构的薄膜方面获得了一些应用，但 是对甚高频 （VHF ）磁控溅射放电等离子体的性能研究较少，为了更好地了解这种放 电等离子体的性能，从而对甚高频（VHF ）磁控溅射沉积薄膜提供一些有意义的指导， 本论文开展了甚高频 （VHF ）磁控溅射放电等离子体特性的研究。 论文主要研究了60MHz甚高频（VHF ）磁控溅射放电等离子体的