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校正矩阵同时单点沉淀滴定法研究

维普资讯 V0l_l2 分析科学学报 No.2 1996 校正矩阵同时单点沉淀滴定法研究。 叭 遗 、 /”岛 (武汉化工学院精细化工系 .武汉 .430073) l t 摘要 本文将校正矩埠计霉法应甩干单点沉淀滴定法中,同时洲定 了卤素爱硫氰畦盐混 合物各组分含量 .讨论 了方法原理 、指定 电位的确定及常数矩阵的建立 .对 28个二元 、 三元及四元混合样进行分析 .锭得满意培果 . 翔 词 附 蝴 蕊 由于共沉淀严重 ,使 卤素混合物的分 0· 步滴定误差达 l~2 ,不符合常量分析准 n 确度要求 .从作者测定的卤素及硫氰酸盐 、 混合物滴定曲线 (图 1)看 出,滴定 耻一及 SCN 时无滴定突跃 ,更难用于实际样品分 、 析中 .作者 曾用直线法准确测定了卤素及 硫氰酸盐混合物各组分浓度 ],该法计算 一 及作图较费时 .作者对单点滴定法及改进 一n 矩阵计算法曾进行过一些研究 一.本文 在前述工作基础上 ,将校正矩阵计算法用 ” 于单点沉淀滴定法中,讨论了单点沉淀滴 № 。Curve l“r“0IlI.Br.scN anda mnl~ed 定法原理 ,单点 电位的选择 ,建立了测定 ~tutlon 州 Ill蝴 v盯 niirllte. 二元、三元及四元混合物的常数矩阵.测 定了28个卤索及硫氰酸盐二元、三元及四元混合样中各组分浓度 .均获得满意结果 原 理 用银 电饭测定卤紊及硫氰酸盐某组分浓度的直接 电位法 .基于 Ncrnst方程 : %。,^I= +,^.+0.O59Jg 等等 (” 式中 十‘,^.及 嚆一,^|分别为银电极电位及条件电位 ;[X一]为卤紊或硫氰酸盐浓度 ;I砷【为 其难溶银盐溶度积常数 .可见当 ‰.+/k。为定值时 ,[x ]固定 .若进行 沉淀滴 定 A +x —Agx●则试液中[x ]的大小,取决于所加滴定剂的量 .即在指定电位处 ,试液 中某组分物质的量与滴定剂加入量成正比.若待测组分物 质的量为 n,滴定至指定电位 ·l改祷 日期 -JLggG.—O6—06 l12 维普资讯 点时 ,所加滴定剂体积为V,则有 : n—kV (2) 若试液中含 m种可滴定的组分 ,这时对m个指定电位点对应的滴定剂体积 ,可建立 式 可 配 电 方程组 : nl—ktlVI.-~-k】2V2+… +klmVm n2= 】V】+ 2V2+… +k2mV ; (3)

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