表面活性剂与螯合剂复配用以清洗硅片的应用探讨.pdfVIP

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  • 2015-10-09 发布于重庆
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表面活性剂与螯合剂复配用以清洗硅片的应用探讨.pdf

表面活性剂与螯合剂复配用以清洗硅片的应用探讨

年 月 !))* ’!))* +,-(./.0123(4516/.7-+1(82+913/ /:; 用含表面活性剂和螯合剂的清洗液 清洗硅片的研究 * * * * ! 曹宝成 于新好 马 瑾 马洪磊 刘忠立 山东大学光电材料与器件研究所 济南 C* ’ !)*))D 中国科学院半导体研究所 北京 C! ’ *)))E?D 摘要 目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是 清洗技术 文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂

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