《《第4章 薄膜的制备》》.pptVIP

材料合成与制备 李亚伟 赵雷 无机非金属材料系 第四章 薄膜的制备 薄膜制备是一门迅速发展的材料技术，薄膜的制备方法综合了物理、化学、材料科学以及高技术手段。 薄膜的应用前景十分广泛。半导体器件，电路连接， 电极，光电子器件，半导体激光器 ，光学镀膜 薄膜科学的研究内容 薄膜生长理论和薄膜制备技术； 薄膜的结构、成分和微观状态； 薄膜的宏观特性及其应用。 表面相? 气固界面  薄膜生长的本质是气体-固体相变 基本概念 表面成核 ?cos ?= ?’- ?” 基本概念 基本概念 基本概念 基本概念 4.1 所用基片及其处理方法 薄膜涂层本身不能单独作为一种材料来使用，它必须与基片结合在一起来发挥它的作用。 4.1.1 基片类型 玻璃基片、陶瓷基片、单晶基片、金属基片等。 玻璃基片（1） 玻璃是一种透明的具有平滑表面的稳定性材料，可以在小于500°C 的温度下使用。玻璃的热性质和化学性质随其成分不同而有明显变化。 玻璃基片（2） 石英玻璃在化学耐久性、耐热性和耐热冲击性方面都是最优异的。 普通玻璃板和显微镜镜片玻璃是碱石灰系玻璃，容易熔化和成型，但其膨胀系数大。 可以将普通玻璃板中的Na2O 置换成B2O3，以减小其膨胀系数。 硅酸盐玻璃就是这种成分代换的典型产品。 陶瓷基片（1） (1)氧化铝基片 氧化铝是很好的耐热材料，具有优异的机