锰(铁)硅膜微结构研究.pdfVIP

锰(铁)硅薄膜微结构研究 系别：物理堂丕 专业：凝塞态物理 作者：至佳压 导N．-菱量敛教援 摘要 (1)用拉曼光谱研究MnSi。和FeSi。薄膜微结构 我们用拉曼光谱研究了不同退火温度下MnSi。和FeSi。薄膜微结构，首次确定 了锰硅化合物的两个相，MnSil．73相和MnSi相的拉曼光谱。每一个锰硅化合物的 相在300cm。1附近有一套3个峰的拉曼光谱，它们能够被用来作为确定锰硅化合物 形成的指纹。相比较传统XRD方法，拉曼光谱对于研究锰硅化合物的微结构更 为灵敏，特别是在锰硅化合物形成初期。 我们在外延生长制备Fe掺杂Si薄膜时，通过拉曼光谱发现，可以通过控制生 长薄膜的厚度来提高外延薄膜的质量及控制相分离。 (2)用双晶x射线衍射(DCXRD)研究Mn掺杂和Fe掺杂硅薄膜微结构 双晶XRD被用来研究Mn掺杂和Fe掺杂Si薄膜微结构。我们测量了Si(400)峰 附近的凸起。当Si(400)峰右面凸起时，是由于Mn或Fe原子在问隙位置引起，因 为它们减d,T晶格常数。当Si(400)峰左面凸起时，是由于Mn或Fe原子在替位