cf
中南人学博十论文 摘要
摘 要
采用射频容性耦合、感性耦合CF4等离子体对硅橡胶试样进行表面改
性。等离子体改性前后硅橡胶试样表面形貌、化学官能团和疏水疏油性分
(ATR.FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角表征。
sccm,经200
当CF4气体流量为20 W射频容性耦合与200W射频
感性耦合等离子体处理5min后,硅橡胶试样表面均方根粗糙度像a)由原
始试样的42.460nln分别增至134.425nm和46.613nnl。说明在对硅橡胶
试样处理过程中,由于载有试样的高频电极较高自偏压的存在,CF4等离
子体中阳离子经加速后轰击试样表面,增强了对硅橡胶试样表面的溅射、
刻蚀作用,射频容性耦合CF4等离子体在改变试样的微观形貌方面明显强
于感性耦合等离子体处理工艺。
性耦合CF4射频等离子体200W直接处理20min后,硅橡胶试样表面官
0.029;加~容性耦合等离子体100W预处理5min后,再经容性耦合
原创力文档

文档评论(0)