介质薄膜膜体系力学光学特性研究.pdfVIP

介质薄膜膜基体系力学光学特性研究 研究擞部：王成 糍导教撵：钱龙生 摘要 薄膜在光学领域帮睾器体领域中静演豹角色舀盏纛妥，因诧对薄膜静质量掇 出了更高的翳求。研究薄膜应力对薄膜性能的影响，特别是DWDM亚纳米带宽 黝譬带滤光片巾的薄膜应力作月，能够从掇本上提窝薄膜性能，使超窄带滤光片 的翎作成为可能。 本文系统地分析了薄膜的形成过程、应力模型和殿力对薄膜成核的影响，薄 貘应力和热处理对介质薄骥必谱的影响：总结了薄麟成为的测量方法。 通过理论分析和实验研究得出如下络论：应力律箱下，多层薄膜不均匀的朦 厚变化是薄膜光谱退化的主要原因；基片的弯曲导致光线入射角度产生偏差，此 角度偏差使波长测量不准，援损增加；热处理可以使分质薄骥应力减小，在热处 理能量低予弧稳态薄膜酶激滔能时只膏热应力改交，波长变化量与热处理温度成 线性关系，热处理能量较高时，热应力和本征应力同时改变，进而波长的改变姆 中，将溅量蠢法进行了分熬，给出了备测置方法的优缺点。 关键词；光学薄膜威力光谱退化热处理应力测量 捕要 ofmechanicaland characteristicin Study optical film／substratefofdielectricthin鬟l门 system Master Department：Wangcheng Directed by：Qian tongsheng Abstract Filmis rolein fieldandsemiconductorfield。 playinga娃increasingimportantoptics thereforeitis to the of theeffectofthefilm necessary improvequalityfilm．Study stresson onsub-nanometernarrow bandwidth矗lter，could film，especially improve the offilmtoa extentandmakeit to narrow performance super great possibleproduce bandwidthfilter． It the of is in dissertationthattheformation film，the systematicallyanalyzed process of of modeloffilm e