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超短激光脉冲微构造硅表面 朱京涛 指导教师：赵利教授 摘要 在一定气体氛围下，用超短激光脉冲照射硅片表面，在硅表面产生准规则排 列的微米量级锥形尖峰结构。经过表面微构造的硅材料，光吸收效率显著提高， 尤其在红井波段。对这一现象的研究，不仅是研究光与物质佟焉的基本课题，也 具有潜在的应用价值。我们建立了超短激光脉冲微构造硅表面的实验装置，对硅 表面微结构熬形成及其光吸收性质进行了系统的研究。 研究了激光参数和气体条件对表面微结构的影响。结果表明，背景气体和激 光通量对表面微观结构的形成起着决定性的作用。只有在SF6气体氛围下，才能 形成尖锐的锥形尖峰结构。尖峰的高度和间距随着激光通量的增加而增大。 利用皮秒激光脉冲，也可在硅表面构造出尖峰结构。但不同脉冲宽度的激光 与硅表面相互作用的物理机制并不相同，研究了在SF6气体氛围下，皮秒和飞秒 激光脉冲作用下硅表面微结梅的演化过程，在皮秒激光脉冲作用下，尖峰结构形 成之前硅片表面先熔化；而飞秒激光脉冲作用下尖峰的演化过程中始终没有出现 液相，表明激光脉冲宽度在表露微构造的形成起着相当重要的作用。 硅表面尖峰结构的形貌与入射激光的偏振方向密切相关。当用圆偏振激光照 射，形成的是对称的锥形尖峰结构；线偏振光形成的尖峰形状是扁锥形，且扁锥 这种非对称尖峰结构的形成机理。 二次离子质谱(SIMS)和透射电子显微镜(TEM)对SF6氛围下制备的表面微构 造硅的成份与结构测定的结果表明：微构造的硅材料表面含有大量的S和F元 素，结构上为含有大量缺陷鲍晶体。弱时表明表面微构造硅材料的形成是激光辅 助化学刻蚀的过程。 我们研究了不同激光通量，SF6和N2氛围条件下制备的表匾微结构硅材料的 光吸收性质，结果表明表面微构造硅材料在0．3一16．7微米波长范围内的光吸收 率显著提高。SF6氛围下制备的表面微结构硅材料的光吸收率在整个测量波段范 围内可保持在80％以上；N2氛溺下制备的表面微结构硅材料在0．3一1．1微米和 9—14微米波段的光吸收率可保持在80％以上，但在2—7微米波段有一个低吸 收带。这种极好的光吸收特性使表面微构造硅材料在高效硅光电池、全波段光探 测器、激光功率计，光通讯和遥感等领域具有巨大的潜在应用价值。 关键词：超短激光脉冲；硅表面微构造；光吸收；偏振效应 PACS分类号：81。65．cf；52．38。Mf；78．30。Am；78。68。+m 中图法分类号：0532+。25；0472+3；TN305．7；TN215 Siliconsurface ultra--shortlaser micro--structuring pulses using Zhu Jing-Tao Advisor：Prof．Li Zhao Abstract conical areformedonthesilicon cumulative of surface sharp spikes by Arrays ultrashortlaser inthe ofambient novel irradiationof pulses presence gases．Tms hasattractedinterestnot becauseoftheinteractionbetween phenomenon great