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分子红外泛频光强度研究

摘 要 本论文从实验和理论两方面研究分子红外泛频吸收光谱强度,研究 的体系有CHX3(X=C1,Br,I),SiHX3(X=D,F,Cl),XHa(X=C,Si,Ge,Sn) 和PH3.分子的红外吸收强度一般随着激发量子数的增加呈递减趋势, 然而,在一些分子中,实验上常观铡到振动泛频的反常强或弱的吸收, 如泛频比基频强、低泛频比高泛频弱等.这些有趣的现象促使我们对上 述体系进行了较为系统的研究.在波恩一奥本海默近似下,分子的红外 光谱强度由分子的势能面和创 决定,前者往往通过实验光谱的 位置信息反推得到,后者原则上可以进一步从光谱的强度信息确定.然 而实际的光谱强度数据对实验条件的依赖较大,样品的浓度、气压、光谱 仪器的非线性响应等都会导致较大的实验误差,因而电偶极矩面不易被 实验确定.随着计算机技术和量子化学计算方法的发展,人们可以从计 算的角度来理解实验光谱,如使用从头算和密度 .本论文主要 采用量子化学计算方法得到电偶极矩面、用实验数据反推得到势能面的 过程来研究上述分子体系的红外吸收强度,成功解释了实验中发现的有 趣现象,并指出了该领域中一些错误和不完善的认识.f内容简介如下:

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