脉冲激光沉积（PLD）法制备NiZn铁氧体多晶薄膜及研究.pdfVIP

一 脉冲激光沉积(PLD)法制各NiZn铁氧体多晶薄膜研究 、互59073褂晏 摘 要 氧体薄膜，研究了成膜机制和制备高性能NiZn铁氧体薄膜的条件，并分析了薄膜的 微观结构、磁性能与沉积过程的关系。通过SEM、XRD、VSM等分析表明：薄膜的 主晶相为尖晶石结构，不同基片上薄膜晶粒尺寸均随基片温度升高而增大，但硅基片 上薄膜在(400)晶面具有一定的择优取向；薄膜的沉积速率随基片温度升高呈现先增 大后下降的趋势，且在玻璃基片上沉积速率随基片温度的变化更为敏感；随着氧压的 升高，虽沉积速率逐渐下降，但其磁性能逐步变优；热处理可改善薄膜的磁性能，尤 其对较低温度下制备的样品，热处理的作用十分明显；提高基片温度、氧压和热处理 对薄膜磁性能的改善有明显作用；外加偏磁场有助于提高室温下制备的薄膜的磁性 能。 关键词：脉冲激光沉积PLDj：Nizn铁氧体；薄膜；微观结构旬磁性能