新型酰亚胺类化合物的^1HNMR研究.pdfVIP

维普资讯 Vo1．13 高分子材料科学与工程 No．4 I997年7丑 P(]I MERICMATERIAlSSCIENCEANDB IN髓弼 NG Ju1．1997 新型酰亚胺类化合物的HNMR研究’ 杨绪杰 杨 宇 周文涛 陆路德 汪 信 — — — — —丁甫京蓬 瓦-I 院材料化学教研室，南京。2lo094) OiS!,-7- 摘 薹 06弓卜L 合成了l2种币同类型竹麓重胺类化夸暂，用-HNMR研克了这些化鲁糟相应的单体和酰胺畦 阐速了氮上孤电干对的鸯蝮对革环上质子的辱蕞作用以置奠基的击耳l蕞盘应对质子化学往移的静 响 用IR研克了脱水后的晚重胺化鲁轴 ．其IH 和 IR的蛄秉昔令人满毒。 美量词墨氅苎苎壅堂t兰苎垡，酰脖酸，垦塑 聚面纽 聚酰亚胺是一种新型的耐高韫聚合物，目前越来越多地引起人们的重视和研究 “]，其耐 热和耐辐射性能是目前工业化生产最好的高分子材料之一，在高温下具有突出的介电性能、力 学性能、耐燃性能和耐磨性能等[．]。现在越来越多的科技工作者利用现代分析仪器研究和表 征这些聚合物．核磁共振是其中重要的手段之一。对于那些可溶性单体的聚合物，可用 IR、H 和3C核磁共振来表征[“，对于那些不溶性聚合物可使用固态uCNMR[、IR[ 来研究 我们合成了12种新型酰亚胺类化台物，利用。HN 测定了单体及其酰胺酸敷据，对其 结构性能进行了表征 对于脱水后非溶性酰亚胺用IR来表征其性能，两者皆得到较为满意的 结果 1 实验部分 合成所需原料见T丑h1合成方法如下：将1r∞lH,N--R--NH,(R=—-0、卜， 0 0卜，__0_—o_0__．_．(0—m—0__)溶于DMF中，搅拌下逐次少量加 人0．5m。J(一般过量1 ～5 )的BIDA，在室温下反应4h，却得辩酰胺酸 酰胺酸用NaAc和 AczO化学脱水可得到相应的酰亚胺类化合物 N—R—N (R同上)一BIDA-顺丁烯二酸酐 (或邻苯二甲酸酐)的合成方法与二元相似，在此不详违。 HNMR图谱在VarianFT8OANMR谱仪上测定，质子的共振频率为79．45MHz，90脉冲 角，DWSO-~作溶剂；六甲基二硅醚((a )。一Si—O～Si一(a ))(PgClDS)为内标 红外光谱 由7400型红外分光光度计测定((Ⅺ 压片)。‘ ·南京理工大学费助项 目 收穑 日期：l995一O6一l6 维普资讯 第 4期 橱绪杰等：新型酰亚睦类化合啊的2HN1VIR研究 I 1 H NMR 峨■c■ fb(5)0f出efeeds ：s~nF,lepeak．dd：doublepeak．In：mul6一 dpeak． 2 结果与讨论 原料4，41_二氨基二苯甲烷 (MDA)的。H NMR图谱如 蚤1所示。2．50ppI】处为来氘代 完全的DIVi~ d残存的质子峰，3．6O啪 为亚 。 甲基(一( 一)峰，4．51p肿 处为 O中残存 d 质子}ⅡX)、样品枞 中的 O与其一N 交 1 H‘Nm ~eetmm m ^inD~ O-d6 换 的质子峰(此峰较宽其化学位移值变化)， 6．46～6．92ppm为芳环上质子AB体系双二重峰，此芳环质子位移要比苯的化学位移(7．27 ppra)低得多，这主要是由于氮上弧对电子的离域作用和苯环上的 电子云形成P 共轭体系， 使芳环上的质子受到屏蔽作用，在较高磁场区共振M。一NH2邻位的芳环上质子由于P-共轭 受屏蔽大些(化学位移值小)-而一N 问位芳环质子受屏蔽小些 (化学位移值大)，此外这些芳 环质子