《基于NEDI砷化镓肖特基二极管的D波段和G波段倍频源》.pdfVIP

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《基于NEDI砷化镓肖特基二极管的D波段和G波段倍频源》.pdf

第33卷第3期 红 外 与 毫 米 波 学报 Vo1.33.NO.3 2014年 6月 J.InflaredM illim .W aves June,2014 文章编号:1001—9014(2014)03—0256—07 DOI:10.3724/SP.J.1010.2014.00256 基于 NEDI砷化镓 肖特基二极管的 D波段和 G波段倍频源 姚常飞 ,周 明,罗运生,林 罡,李 姣 ,许从海 ,寇亚男, 吴 目4,王继财 (1.南京电子器件研究所 微波毫米波单片集成和模块电路重点实验室,江苏 南京 210016; 2.南京电子器件研究所 微波毫米波模块 电路事业部 ,江苏 南京 210016) 摘要:基于南京电子器件研究所(NEDI)的GaAs工艺线,通过分析器件的有源层(缓冲层、外延层)材料掺杂浓度和 厚度、肖特基接触面积等,综合优化二极管性能,研制出了截止频率为3.2THz的太赫兹变阻二极管.基于该二极 管,通过建立其三维场结构,采用电磁场和电路仿真软件相结合的方法,一体化设计匹配电路和器件,研制出了D 波段和G波段倍频源.D波段二倍频器在 152.6GHz测得最高倍频效率为2.7%,在 147.4—155GHz效率典型值 为 1.3%.G波段二倍频器在 172GHz测得最高倍频效率为2.1%,在 150—200GHz效率典型值为 1.0%. 关 键 词:太赫兹;GaAs肖特基二极管;倍频器 中图分类号:TN77 文献标识码 :A DevelopmentofD·BandandG-Bandfrequencymultiplysourceswith SchottkydiodesofNEDI YAOChang.Fei , ZHOU Ming , LUOYun.Sheng , LIN Gang , LIJiao , XU Cong—Hai, KOU Ya.Nan。 WU Gang, WANGJi.Cai , (1.ScienceandTechnologyonMonolithicIntegratedCircuitsandModulesLaboratory,NamingElectronic DevicesInstitute,Naming 210016,China; 2.DepartmentofMicrowaveandMillimeterWaveModules,NamingElectronicDevicesInstitute,Naming 210016,China) Abstract:Terahe~zSchottkyvaristordiodewithcutoff~equencyof3.2THzwasdevelopedbasedonGaAsprocessofNan— jingElectronicDevicesInstitute(NEDI).Theperformancesofdiodesareoptimizedbyoptimizationofactivelayer(expital layerandbufferlayer)doping,thickness,andSchottkycontactarea.Physicalstructureofthenonlineardiodewassetup, andEM softwareandcircuitsoftwarewerecombinedtogetherforimpedancematchinganalysis.FortheD—banddoubler, highestmeasuredmultiplyefficiencyis2.7% at152

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