Me-Si-N薄膜制备及性能表征.pdfVIP

Me．Si-N薄膜的制备与性能表征 摘要 本文以磁控溅射和离子束辅助沉积两种方法制各了Me．Si．N薄膜(Hf-Si-N、 线衍射仪(X】m)和x射线光电子能谱(xPS)研究了薄膜的表面形貌、微观组织和相 结构；通过纳米力学综合测试系统、摩擦磨损实验、电化学工作站研究了Si元素含量 对薄膜的摩擦磨损性能、纳米力学性能及耐腐蚀性能的影响：采用蛋白质表面吸附实验 和血小板黏附实验研究了Me．Si-N薄膜对生物医用金属材料表面生物相容性的影响；并 通过接触角测试和第一性原理计算方法研究了不同Si含量的Me．Si．N薄膜的表面能。 表面形貌和微观结构测试结果表明：随着Si元素含量的增加，Me—Si-N薄膜表面粗 糙度降低；薄膜主要由MeN和Si3N4两相组成； 摩擦磨损实验结果表明：随着摩擦时间的增加，薄膜的摩擦系数不断上升，且随着 Si含量的增加先减小后增大，但其均低于低于基体试样的摩擦系数；薄膜具有较好的耐 磨性能； 模拟体液中耐蚀性能测试结果表明：随着Si元素含量的增加，耐蚀性能先上升后 Hf-Si．N薄膜的耐蚀性能最佳，开路电位下可产生自钝化现象，自腐蚀电位升高，能够 实现对基体的有效防护； 好的生物相容性能，且Hf-Si．N薄膜生物相容性优于Zr．Si-N薄膜； 由接触角测试和第一性原理计算结果可知：随着Si含量的增加薄膜表面能先增大 后减小。 关键词：Me．Si-N薄膜；耐蚀性；生物相容性；表面能 Me—Si-N薄膜的制备与性能表征 Abstract Inthis seriesofMe—Si-N paper,a films(Hf-Si-N、Zr-Si-N)weremagnetron depositedby andionbeamassisted orderto the spuRering deposition influence technology．Ininvestigate ofsiliconcontentonthemicrostructureand ofthe surface films，the properties morphology, microstructureand structureWasstudied惭m and phase SEM，AFM，EDS，XRDXPS， nano-mechanical andwear andcorrosion respectively．The properties，frictionproperties resistancewerestudiedwith nano—indentationandweartestandelectrochemical test，friction ofMe-Si-N system．The filmsWas the surface biocompatibility investigatedby protein testand adhesiontest．Thesurface ofMe-Si-Nfilmswithdifferent adsorption platelet e