zrnal-s-n多层膜与al-si-c-n复合膜的制备及性能研究.pdfVIP

摘 要 摘 要 本论文采用反应磁控溅射法制备了 Al-Si-N 复合膜、ZrN/Al-Si-N 纳米多层 膜以及Al-Si-C-N 纳米复合膜。研究了Si 含量对Al-Si-N 薄膜的微结构和性能的 影响；研究了不同调制比和不同调制周期对ZrN/Al-Si-N 纳米多层膜微结构及其 性能的影响，并探讨了多层膜的可能致硬机理；研究了不同C 靶功率对Al-Si-C-N 复合膜的微结构和性能的影响，并探讨了复合膜的可能致硬机理。 研究结果如下： 在Ai-Si-N 复合膜中，随着Si 含量的增加，AlN(100) 、AlN(110)衍射峰先增 强，当Si 含量达到15.36at.%以后，又逐渐弱化、宽化，向大角度方向偏移，薄 膜趋向于纳米晶；薄膜在Si 含量为9.91at.%时，硬度达到最大值27.9GPa ，固溶 强化和界面复合强化可能是硬度升高的主要原因；薄膜的抗氧化性能随着 Si 含 量的增加而逐渐提高，Si 含量为 20.12at.%时，其抗氧化温度超过 950℃；薄膜 的室温平均摩擦系数随 Si 含量的增加先减小后小幅增大，摩擦系数的减小主要 是受由 a-Si N 、SiO 和 Si(OH) 组成的摩擦层影响，高温(750℃)平均摩擦系数 3 4 2 2 随Si 含量的增加先增大后减小，但均小于相同Si 含量的室温摩擦系数，主要受 高温下生成的氧化物润滑层的影响。 在ZrN/Al-Si-N 多层膜中，固定lZrN=5.0nm ，改变lAl-Si-N 从0.36nm~3.6nm， 没有产生模板效应，fcc-ZrN 与 hcp-Al-Si-N 形成了异构共格外延生长结构。在 lAl-Si-N=0.36nm 时，硬度达到最大值35.31GPa，随着lAl-Si-N 的逐渐增大，薄膜的 硬度逐渐下降。随着lAl-Si-N 的逐渐增大，平均摩擦系数(室温)先增大后小幅下降， 在lAl-Si-N=0.36nm 时达到最小值0.1873 ；固定R=1 ，改变Λ 从2nm~10nm ，fcc-ZrN 与hcp-Al-Si-N 之间仍为异构共格外延生长。随着Λ 的增大，薄膜硬度先增大后 减小，在Λ=6nm 时，有最大值29.52GPa ，平均摩擦系数缓慢增大。多层膜硬度 提高可能是协调应变强化以及c-ZrN、h-Al-Si-N 之间具有不同的滑移系统所致。 在Al-Si-C-N 复合膜中，引入C 元素以后，薄膜仍为六方结构，AlN(100)和 AlN(110)衍射峰迅速减弱，出现了较强的 AlN(002)衍射峰、较弱的 AlN(101) 、 AlN(102)和 Al C (104)衍射峰，薄膜呈AlN(002)择优生长。随P 的增加，所有 3 4 C 衍射峰逐渐向小角度方向偏移，并逐渐宽化、弱化；随 PC 的增加，复合膜的硬 度先逐渐增大后又逐渐减小，P =50w 时，有最大值41.78GPa ，其致硬机理可能 C 为细晶强化、界面复合强化以及固溶强化。掺入C 元素可降低薄膜的摩擦系数。 关键词：多层膜；复合膜；微结构；力学性能；致硬机理；摩擦磨损 I Abstract Abstract A series of Al-Si-N composite films, ZrN/Al-Si-N multilayer films, Al-Si-C-N composite films were prepared by reactive magnetron sputtering method. The effect of Si content on the microstructure and properties of A