纳米技术在元器件领域的应用与发展对细胞工学的影响.pdfVIP

维普资讯 电子显微学报 J．Chin．Electr．Microsc．Soc 24(4)：447～451 2005年 447 纳米技术在元器件领域的应用与发展 对细胞工学的影响 精工电子纳米科技有限公司 MunekaneMasanao，WadaHiroyuki，FuXuan 刖吾 关于聚焦离子束 FIB(Focused10nBeam) 作为生物纳米技术之一而引人注 目的再生学 ， 对再生物的培养一直是人们期待解决 的课题之一 。 聚焦离子束 FIB(FocusedIonBeam)装置，是从离 但器官是由有规则且有着复杂构造的细胞组成，并 子源 中通过电位差拉出镓离子 ，用电场镜简使离子 维持在适合细胞的生存环境下提供氧和营养。在 目 束聚焦并照射物体表面的装置。通过控制聚焦离子 前还没有找到适合培养器官整体的单元 的情况下， 束在很小 的范围扫描被照射物体 ，使 聚焦离子束可 以培养为 目的，适合细胞配置的显微组织体被认为 以和扫描 电子显微镜 (SEM)有 同样的观察 的功能。 是非常的重要。 我 们 称 其 为 扫 描 离 子 显 微 镜 (Scanning Ion 此外，随着近几年半导体技术的发展 ，作为半导 Microscope：SIM)。SEM和 SIM不 同，SEM主要用于 体主要性能指标之一的加工线宽，用 电子线和非常 观察 ，SIM在观察之外也能应用于加工 ，通过对任意 短的波长，如紫外光为光源的曝光技术 ，可达到数十 位置的扫描 ，可 以完成对样 品任 意位置的刻蚀 (图 纳米的微细加工水平。遮掩膜在半导体领域被用作 2a)。 控制 曝 光形成半导体 线路 ，而 聚焦离子束 FIB 此外 ，FIB还可通过边 向物体表面喷射特定的 (FocusedIonBeam)系统通常被用作遮掩膜的修补。 FenantorenC4H10等辅助气体 ，边利用离子束的扫描 ． FIB是遮掩膜修补不可替代的工具 ，同时还可 以利 使样品表面可生成化合物 ，并对化合物进行 固定和 用它的加工功能 ，通过对器件的刻蚀加工功能 以及 堆积 (图 2b)，我们称之为淀积功 能 (Chemical— 观察功能，从而达到故 障解析 的 目的(图 1)。这里 Vapor—DepositionCVD)。通过改变辅助气体 ，可 以 我们将 FIB引入生物科学领域 ，通过它来制作培养 改变淀积的膜的种类。当我们利用 FenantorenC4H10 细胞用的生物纳米器皿。 作为辅助气体时，形成 的是金刚石结构 的碳膜。通 过 FIB的观察 、刻蚀加工和淀积加工的功能 ，我们可 以在样品表面制作出任意形状的物体 。 FIB进行加工的优点 FIB擅长迅速进行各种形状 的微小加工。微小 的构造可通过从底部开始逐步堆积 的方式进行构 筑。因此能够在生物纳米技术领域为尽早