全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍.pdfVIP

：胃 电 字 工 业 专 用 设 备 清洗技术与设备 全 自动光刻版清洗机工艺原理与工作 过程介绍 宋文超，刘永进，王 刚，张利军，侯为萍 (中国电子科技集团公司第四十五研究所，北京 101601) 摘 要 ：介绍 了常用的光刻版清洗工艺，并详细讲解 了全 自动光刻版清洗机的工作过程。同时， 简单介绍了为提 高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统 、药液供给与循环 系统和温控 系统。 关键词 ：半导体 ；光刻版清洗 ；单 晶圆清洗 ；自动设备 中图分类号 ：TN305．97 文献标识码 ：B 文章编号 ：1004-4507(2014)02-0023—06 IntroductiontotheProcessandtheOperatingoftheAutomatic Photomask CleaningEquipment SONGWenchao，LIUYongjin，WANGGang，ZHANGLijun，HOUWeiping (The45ResearchInstituteofCETC，Beijing101601，China) Abstract：Photomask cleaningprocessesareintroduced．W ith oneoftheprocesses，theoperatingof the automaticphotomask cleaningequipmentispresent．Theprincipleofthephotomask immersion tank，chemicalsupplyandrecyclesystem ，andtemperaturecontrolsystem arealsoinrtoduced． Keywords：Semiconductor；Photomaskcleaning；Singlewaferclean；Automaticequipment 光刻是制造半导体器件和集成 电路微 图形 的存在直接影响到光刻 的效果 。为 了保证光刻版 结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成 洁净，必须定期对光刻版进行清洗 ，而清洗 的效 品率 、可靠性 、器件性能 以及使用寿命等参数指 果与清洗工艺 以及各清洗工艺在设备上 的合理 标 。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版 配置有着密切 的联系 。 必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来 自版 图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗 1 工艺原理 粒就会被复制到硅片表面的光刻胶上 ，造成器件 性能的下降。然而，光刻版在使用过程 中不可避 1．1清洗药液 免 的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物 (1)丙酮溶液 。对于光刻胶及其他有机污染 收稿 日期 ：2013—11-26 - 电 子 工 业 董 用 i殳备 电子专用设备研制 与玻璃纤维复合材料相 比较，碳纤维复合材 性能，通过有 限元分析和实验分析 ，得知碳纤维复 料更难加工，主要原因是其硬度高、层 问剪切强度 合材料较玻璃纤维复合材料具有更高的一阶固有 低和导热性差，其难加工性表现为刀具的磨损快、 频率和刚度，另外其还具有吸振性好、耐高温、热 切削阻力大和 由于切削温度高而产生的分层和烧 传导好等优点，因此，用于高加速运动平台的双边 损 ，并且加工过程 中极易产生发热堵塞现象，从而 型动圈型无铁心直线 电机 ，其动子采用碳纤维复 导致碳纤维表面碳化，影响表面加工质量且大大 合材料能够获得更优异 的性能 。但是，碳纤维复合 影响刀具的使用寿命。同时由于碳纤维具有导电 材料的机械加工性能较差，因此要提高对碳纤维