稀土碱金属复合化物中tblt;#39;3+gt;的真空紫外荧光性质.pdf

中文摘要 摘要：真空紫外(VUV)稀土荧光材料由于其在无汞荧光灯及等离子平板显 示器中的应用，已成为近几年来发光材料研究的重点。而要在高能真空紫外激发 下获得高效率的发光则是研究VUV荧光材料的主要目标。研究人员利用寻找在真 空紫外区有强吸收的基质材料、稀土离子的强4fl。15d跃迁、稀土离子间的能量传 递以及各种制备方法等研究手段来获取提高ⅥⅣ荧光材料发光效率的有效途径。 虽然目前已取得一些进展，但这方面的研究仍不够系统，因此我们应该重视这些 基础研究工作，同时这方面工作的有效积累也会为研究获取高效可见光发射的量 子剪裁现象打下良好的基础。本论文研究在VUV和UV激发下，稀土离子Tb3+ 高能量区基质敏化、4f75d电子跃迁特点以及影响因素，来探寻获取提高vUv荧 光材料发光效率的有效途径。 通过研究，本论文主要获得以下结论： 1．研究了1b3+离子掺杂的稀土碱金属复合氟化物和铝酸盐材料处于真空紫外 区的基质吸收带的激发特性以及，rb”在不同基质中4f75d跃迁带的激发特性。Tb” 在稀土复合氟化物体系基质中的4f75d跃迁吸收带位于l70．220nm的范围内，而在 察了不同基质中Tb”的4f75d组态最低能级的位置。 2．氟化物的禁带较宽，稀土离子的厂叫跃迁在氟化物基质中位于能级较高的 位置，避免了与．厂■厂跃迁相重叠，是研究稀土离子的光谱性质的合适基质材料。 在Tb”离子掺杂的氟化物体系中，指认了激发光谱中基质吸收带位于130．160nm 范围内，且强度较弱；而SrAll2019：Tb”材料在真空紫外区有较强的基质吸收，并 指认了其激发光谱中基质吸收带位于约140．170nm的宽带范围内。Tb”在氧化物基 质中的4f8．4f75d跃迁吸收带与氟化物基质相比位于较低能级区域，并且氟化物作 为基质材料能提供较多的稀土离子4fl一5d组态的信息。 关键词：稀土：真空紫外；Tb”；4f75d AB STRACT The ofVUV becomesmoreextensive astheVUV study phosphors recently are usedfor andthePlasma increasinglymercury-freelamps displayplate phosphors the orderto luminescentofthe under high (PDP)．In improve efficiencyphosphors vacuumultraviolet ofthehost energy radiation(VUV)excitation，theproperties 1 4r bandandthe of 5dstatesandthe transferinthe absorption absorption energy havebeenstudied．Theaimofthis is inresearchofthe systems papermainly characteristicsandtheluminescentmechanismsoftheelectronic spectroscopic 4fs states