《Cu粉和Sn粉相界面扩散溶解层的研究 Studies on Diffusion Dissolve Layer of Cu and Sn Powder Phase Interface》.pdfVIP
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《Cu粉和Sn粉相界面扩散溶解层的研究 Studies on Diffusion Dissolve Layer of Cu and Sn Powder Phase Interface》.pdf
第36卷 增刊3 稀有金属材料与工程 Ⅶl3t
suppJ3
2007年 9月 SeⅢ日ub盯2伽7
RAREMETALMATERLALSANDENGTNEERlNG
Cu粉和Sn粉相界面扩散溶解层的研究
宋玉强,李世春
(中国石油太学(华东)机电学院材料系,山东东营257061)
摘要:采用粉末烧结的方法制备出了c“sn扩散溶解层:利用光学和电子显微镜观察了该扩散溶解层的形貌,用x
射线衍射和能谱技术分析了该扩教溶解层的相组成;依据TFDc电子理论对c删Ⅱ扩散溶解层的结构进行丁讨论。研
究发现,cu糨和sⅡ粉在200℃,lo
h的烧结过程中,sn原子不断扩散进入到cu晶体中,在cu粉和sn粉颗粒界面
处·先后依次形成一定厚度的cus啦,c“sIs“n,c”,,s“ll和cu掰ns“8s09金属间化合物扩散溶解层.该扩散溶解屋的
结构为cu相、界面cu,c“研%sn目。B、c”32’92snn
关键词:cu-sⅡ;烧结i界面:扩散;金属间化合物;TFDc电子理论
中国法分类号:TGl46 文献标识码{A 文章编号;1002.1 L7一05
85x(2007)S3—2
铜合金由于具有高的电导率而广泛用于导体材
1 实验材料与方法
料。钎焊过程中,在铜基合金导体和锡基合金钎料之
间的界面处会产生二元cu-sn金属间化合物;在通常 实验用粒度为50~60邺A,纯度均为995%左右
的加电压使用条件下,由于热作用,二元cu,sn金属
间化台物会逐渐生长。cu.sn化合物非常脆,而且具一次冷压-.二次温压一冷却斗200℃烧结10h一冷却
有高的电阻系数,因此,这种化合物的生长,极大地 mm×4
一烧结体。样品尺寸为中16 mm。在wE一30B
损坏了钎焊连接接头的电学和力学性能。李世春咀研 液压式万能实验机上用自制模具压制,在sx210一12
究zn.Al共晶合金超塑性机理为背景,提出了“扩散箱式电阻炉中烧结。烧结温度依据相图手册【6】选定。
溶解层”的概念.建立了相界的扩散溶解层模型11,2】。
程开甲院士在主要考虑了量子力学测不准关系和泡里 子显微镜进行表面微观形貌观察和分析,用x射线衍
不相容原理以后,得到了改进的TFD模型,简称TF射法和能谱技术分析试样的相组成。
Dc模型(TFDc电子理论)口】,李世春利用TFDc电
2实验结果和分析
子理论建立了TFDc相图【4】。T.Takenaka”1针对Sn,
2.1
cll,sⅡ扩散偶研究了Cu,sn界面扩散层的形成和生长 cu,sn扩散溶解层的形貌
行为,给出了扩散层厚度随退火时间和温度变化的表 cu和sn2种粉末经过混料,2种粉末颗粒基本上
达式,但对于cu—sn金属间化合物的形成规律没有研呈弥散分布,并呈球形接触;混合粉末经过压制,颗
究。目前,还没有见到利用TFDc电子理论研究cu
粒发生变形,大多数颗粒的形状变为“平板状”,此时,
和sn扩散溶解层的报道。本文利用粉末烧结的方法, 2种粉末颗粒接触界面增加,出现大量的c“sn界面。
制备出c“sn扩散溶解层,利用光学和电子显微镜观 “平板状”粉末颗粒压坯再经过烧结,压坯中的孔洞
察扩散溶
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