《TiO2颗粒在羟基表面的沉积行为及图案化 Deposition Behavior and Patterning of TiO2 Particles on Hydroxyl Surfaces》.pdfVIP

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2015-12-08 发布于河南
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《TiO2颗粒在羟基表面的沉积行为及图案化 Deposition Behavior and Patterning of TiO2 Particles on Hydroxyl Surfaces》.pdf

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《TiO2颗粒在羟基表面的沉积行为及图案化 Deposition Behavior and Patterning of TiO2 Particles on Hydroxyl Surfaces》.pdf

第27卷第1期无机化学学报V01．27No．1 2011年1月 CHINESE JOURNALOFINORGANICCHEMISTRY 135．140 Ti02颗粒在羟基表面的沉积行为及图案化梁山★，1 孙冬兰1 薛群基2 (1天津科技大学理学院，天津300457) (2中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室，兰州730000) 摘要：比较了3种具有羟基表面Si02层的差异：紫外光照SAMs形成的羟基表面，紫外光照射前、照射后的羟基表面：用光照前后表面的差异，结合化学浴沉积技术在单晶硅基底上制得了TiO：微图案薄膜。系统考察了光源、硅片表面性质的变化、溶液等方面对图案生成的影响。实验表明Ti02沉积在未照区，电子和空穴动力学上的差异造成光照区表面正电荷增多，抑制了Ti02的沉积。该方法不需要光刻胶和自组装膜作为辅助模板，具有简单廉价的特点。关键词：图案化；光照；电子；空穴；迁移率中图分类号：0614．41+1；0649．4文献标识码：A 文章编号：1001-4861(201I)01．0135．06 Behaviorand of Particleson Ti02 Surfaces Deposition Patterning Hydroxyl LIANG Shan。”SUN Dong—Lan‘XUEQun-Ji2 and (1CollegeofScience，TianjinUniversityofScience 300457，C矗伽曲 Technology,Tianjin Abstract：Threekindsof surfacesonSi02 are surfacesareformed hydroxyl layer compared．Thehydroxyl by theSAMsOrthebareSiunderUV thebareSisurfacesin solution exposing light，andtreating onlypiranha but notunderUV thinfilmswerefabricatedontheSisubstrateswiththemethodsofUV lisht．PatternedTi02 irradiationandchemicalbath reasonsfor formationwerediscussedin viewofthe deposition．Thepatterns the UV ofSiwaferandthe solution．Itwasfoundthat ontothe Ti02 light，modifications aqueous particlesdeposited unirradiated oftheelectronsandholescausetheholesto regions．Differe