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掌握特征阵列的基本方法与技巧。 掌握特征复制的基本方法与技巧。 明确特征的各种常用操作及其应用。 本章学习要求 第5章 特征的阵列、复制和基本操作 在线教务辅导网: 教材其余课件及动画素材请查阅在线教务辅导网 QQ:349134187 或者直接输入下面地址: 5.1 特征阵列 5.1.1 5.1.2 5.1.3 5.1.4 5.2 特征复制 5.2.1 5.2.2 5.2.3 5.3 特征的常用操作 5.3.1 5.3.2 5.3.3 5.3.4 5.3.5 5.3.6 5.3.7 5.3.8 本章大纲 阵列的特点。 (1)特征阵列使用特征复制的方法来创建新特征,操作简便。 (2)特征阵列受阵列参数控制,通过改变阵列参数(如实例总数、实例之间的间距以及原始特征的尺寸等)可方便地修改阵列结果。 (3)特征阵列间包含了严格的约束关系,修改原始特征后,系统自动更新整个阵列。 (4)阵列特征及其实例通常被作为一个整体进行操作,对包含在一个阵列中的多个特征同时执行操作,比单独操作特征更为方便和高效。 5.1 特征阵列 5.1.1 特征阵列综述 设计图标板 图5-1 阵列方法分类 尺寸阵列:使用驱动尺寸并指定阵列尺寸增量来创建特征阵列。 方向阵列:通过指定方向参照来创建线性阵列。 轴阵列:通过指定轴参照来创建旋转阵列或螺旋阵列。 表阵列:编辑阵列表,在阵列表中为每一阵列实例指定尺寸值来创建阵列。 参照阵列:参照一个已有的阵列来阵列选定的特征。 填充阵列:用实例特征使用特定格式来填充选定区域来创建阵列。 曲线阵列:按照选定的曲线排列阵列特征。 基本概念 为了方便叙述并帮助读者理解各种阵列设计方法,先简要介绍几个相关的术语。 原始特征:选定用于阵列的特征,是阵列时的父本特征。 实例特征:根据原始特征创建的一组副本特征。 一维阵列:仅仅在一个方向上创建阵列实例的阵列方式。 多维阵列:在多个方向上同时创建阵列实例的阵列方式。 线性阵列:使用线性尺寸创建阵列,阵列后的特征成直线排列。 旋转阵列:使用角度尺寸创建阵列,阵列后的特征以指定中心成环状排列。 图5-2 图5-3 图5-4 图5-5 5.1.2 创建尺寸阵列 尺寸阵列的形式 2.确定驱动尺寸 【要点提示】 由表可看出,【相同】阵列要求严格,一旦出现了不允许的设计操作,特征阵列会以失败告终,但是这种方法创建的阵列简单而且特征再生迅速。【一般】阵列的设计约束少,应用广泛,但是实例特征再生时间长。【可变】阵列综合了二者的长处,是折中的阵列方法。 图5-6 图5-7 确定尺寸增量 尺寸增量主要有以下两种用途。 (1)如果选取原始特征上的定位尺寸作为驱动尺寸,可以通过尺寸增量指明在该尺寸方向上各实例特征之间的间距。 (2)如果选取原始特征上的定形尺寸作为驱动尺寸,可以通过尺寸增量指明在阵列方向上各实例特征上对应尺寸依次增加(或减小)量的大小。 确定阵列特征总数 最后确定在每一个阵列方向上需要创建的特征总数。这里需要注意的是,阵列特征总数包含原始特征在内。 图5-8 【例5-1】 创建尺寸阵列。 打开素材文件。 打开阵列设计工具。 设置尺寸。 设置参数。 在参数面板中设置阵列 尺寸增量为。 按住Ctrl键,继续设置第二个驱动尺寸并设置尺寸增量。 分别在图标板上设置第一方向和第二方向上的特征总数。 单击鼠标中键。 图5-8 图5-9 图5-12 图5-14 在模型对话框中,单击展开阵列特征标记,其中第一个为原始特征,其余为实例特征。 删除阵列实例特征。 5.使用关系式创建阵列 在编辑阵列关系中可以使用下列系统认可的参数。 LEAD_V:导引值(也就是驱动尺寸)的参数符号。 MEMB_V:确定每一个实例特征尺寸或位置时使用的参数符号。 MEMB_I:该参数是相对于前一实例来定位每一个实例特征。 IDX1:第1方向的阵列实例索引值,这些值每计算完一个阵列实例后自动递增1。 IDX2:第2方向的阵列实例索引值。 【要点提示】 MEMB_V和MEMB_I是互相排斥的,二者不能同时出现在同一阵列关系式中。 5.1.3 创建其他阵列 1.创建方向阵列 可以作为方向参照的元素有以下几种。 实体上的平直边线 平面或平整曲面 坐标系 基准轴 图5-17 【例5-2】 创建方向阵列。 打开素材文件。 打开阵列设计工具并创建方向阵列。 输入特征总数和驱动尺寸。 调整第一、第二驱动尺寸。 图5-18 图5-20 图5-21 2.创建轴阵列 轴阵列主要用于创建旋转阵列。设计中首先选取一个旋转轴线作为参照,然后围绕该旋转轴线创建特征阵列,既可以创建一维旋转阵列,也可以创建二维旋转
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