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摘要
摘 要
本论文通过扩展X.射线吸收精细结构(EXAFS)对电沉积法制备的铜铟硒薄
膜的局域结构展开研究,取不同的Cu/In比和不同的硒化温度两组样品CuK边
的EXAFS谱图进行对比,通过一系列的数据处理和分析,得出Cu原子周围的
配位情况,优化电沉积及硒化过程的工艺参数。
学共沉积法代替传统的物理研磨法来制备ZnO.A1203混合粉体,实现分子水平
的掺杂,使Al原子在制备的溅射靶材中,能很好地固溶进ZnO纤锌矿晶格中。
用脉冲激光沉积系统沉积制备ZnO:AI(AZO)薄膜,并探索衬底温度和氧分压对
薄膜性能的影响。通过XRD、紫外可见分光光度计和Hall测试系统等多种手段
对AZO薄膜的结晶性及光电性能进行表征,并与传统物理研磨法制备的薄膜性
能参数进行了对比。
对三种尺寸纳米晶锐钛矿Ti02的氧同位素交换结果作了拉曼分析。Ti02晶
格中的部分160替换为180,通过室温拉曼和变温拉曼研究其内部晶格振动的机
制。 .
关键词:铜铟硒薄膜太阳电池扩展X.射线吸收精细结构掺铝氧化锌化学共
沉淀脉冲激光沉积纳米晶二氧化钛氧同位素效应拉曼光谱
Abstract
Abstract
Thelocalstructuresof films
preparedbyone·step
CuLqSe2(CIS)precursor
werecharacterizedextend finestrIJcture
electrodeposition by X—rayadsorption
(EXAFS).Two ofdifferentCu/Inratioanddifferentselenization
groupsamples
weFestudied attheK ofCuhas
temperatures respectively.EXAFS been
edges
measured.Theofthe datawas andthe
Cu
analysis K—edgeabsorption performed
localstructureofCuatomWasobtained.Theresultscanbeusedto the
optimize
conditionsof andtheselenization
electrodeposition process.
filmshavebeen usedasawindowfor
AI-dopedZnO(AZO)thin widely layer
solar orderto AZO
CnInSe2/CdS/ZnO/ZnO:A1cells,In films,
growhi曲一quality
the chemical methodwas to
liquidphase copreci
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