生产实习考试卷(2014.生产实习).docVIP

专业、班级 学 号 姓 名 一、简述LED的发光原理； 答：发光二极管的核心部分是由p型半导体和n型半导体组成的晶片，在p型半导体和n型半导体之间有一个过渡层，称为p-n结。LED晶片生长、芯片的制作LED晶片的生长流程包括：上游的单晶片衬底制作、外延晶片生长；中游的芯片、电极制作、切割和测试分选； LED芯片的制造工艺流程依次为： 外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。→切削→铣磨→精磨→磨边→面型检测→偏心检测→抛光→镀膜→胶合→组装 简述制作减反射膜的原理； 答：减反膜是为了减少入反射损失，要在片表面上覆盖一层膜。 减反射薄膜的原理[1] 在了解减反射薄膜原理之前，要先了解几个简单的概念：第一，光在两种媒质之界面上的振幅反射系数为(1-ρ)/(1+ρ)，式中ρ为界面处两折射率之比。第二，若反射光存在于折射率比相邻媒质更低的媒质内，则相移为180°；若该媒质的折射率高于相邻媒质的折射率，则相移为零。第三，光因受薄膜上下两个表面的反射而分成两个分量，这两个分量将按如下方式重新合并：当它们的相对相移为180°时，合振幅便是两个分量振幅之差；当相对相移为零或为360°的倍数时，合振幅便是两个分量振幅之和。前一种情况称为两光束发生相消干涉；后一种情况称为相长干涉。 1.1 单层减反射薄膜的原理 结构最简单的减反射膜是单层膜。图1所示为单层减反射薄膜的矢量图。 图1 减反射膜引起的光学干涉 膜有两个界面就有两个矢量，每个矢量表示一个界面上的振幅反射系数。如果膜层的折射率低于基片的折射率，则在每个界面上的反射系数都为负值，这表明相位变化为180°。 当膜层的相位厚度为90°时，即膜层的光学厚度为某一波长的四分之一时，则两个矢量的方向完全相反，合矢量便有最小值。如果矢量的模相等，则对该波长而言，两个矢量将完全抵消，于是出现了零反射率。 以上仅仅是垂直入射的情况。在倾斜入射时，情况与上述类似，只是膜层的有效相位厚度减少了，因而最佳透射波长更短些，此时应用更普遍的光纳来代替折射率。对于任何入射角、偏振面以及任何波长，可用矩阵法求出反射率的普遍公式。 1.2 双层减反射薄膜的原理 对于减反射薄膜可由简单的单层薄膜直至二十层以上的多层膜系构成，单层膜只能使某一波长的反射率为零，双层膜或多层膜则可以使某一波段的实际反射率为零。由于制造成本和实际应用的原因在这里我们只介绍一下双层减反射薄膜的原理。图2所示为双层减反射薄膜的矢量图。 图2 双层减反射膜引起的光学干涉 双四象限探测器四象限光电探测器实际由四个光电探测器构成，每个探测器一个象限，目标光信号经光学系统后在四象限光电探测器上成像，如图 一般将四象限光电探测器置于光学系统焦平面上或稍离开焦平面。当目标成像不在光轴上时，四个象限上探测器输出的光电信号幅度不相同，比较四个光电信号的幅度大小就可以知道目标成像在哪个象限上（也就知道了目标的方位），若在四象限光电探测器前面加上光学调制盘，则还可以求出像点偏离四象限光电探测器中心的距离或θ角来。 信号通过放大和调理后由由A/D转换器采样转换成数字量送入单片机，由单片机处理后得到目标的方位，并根据实际系统的需要输出方位控制指令1）建立了双四象限、四象限光电探测器的全新数学模型，以更清晰的物理含义描述任意时刻探测器输出信号与探测器离焦量、位置姿态的数学关系，在样本空间更完整、精确地表示出探测器输出随输入的变化规律。 （2）确定光电探测器输出信号的线性特征参量与探测器（Δ，α，β，γ）参量之间的函数映射关系，建立光电探测器位置自适应全新测量模型，消除了以往的模型存在的“局部最优”问题。 （3）对位移测量的不确定度、最大误差，以及角度量测量最大绝对误差都大大减小，提高了测量的精确度。 六、简述激光制导原理； 答:所谓激光制导技术，就是利用激光跟踪、测量和传输的手段控制和导引导弹飞向目标的技术。激光器发出照射目标的激光波束，激光接收装置接收目标反射的光波，经光电转换和信息处理，得出目标的位置参数信号，再经信号变换用以跟踪目标和控制导弹的飞行。有的激光制导系统还用激光传输控制导弹的指令。 激光制导分为激光驾束制导和激光寻的制导两种方式: 1．激光驾束制导以瞄准线作为坐标基线，将激光束在垂直平面内进行空间 位置编码发射，弹上的寻的器接收激光信息并编码，测出导弹偏离瞄准线的方向 和大小，形成控制信号，控制导弹沿瞄准线飞行，直至击中目标。