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摘要
摘要
作为半导体材料,纳米结构的氮化物和氧化物(包括氮化镓、氧化锡、氧化
铟等等)在纳电子学、纳光子学等方面的应用在过去几年中受到了很大关注。有
关这些半导体纳米材料的许多制备方法和结构不断被报导。
在众多制备氮化物和氧化物半导体纳米材料的技术路线中,化学气相沉积是
一种颇受青睐的制备方法。利用气相法制备的半导体纳米材料的形貌可控性强,
更重要的是产物的晶体质量高、产量大。另外,通过对生长条件的控制,可以制
备出各种纳米结构:而对生长气氛以及源的种类、衬底位置,还有温度梯度的调
节又使得掺杂、异质结和超晶格纳米结构甚至超薄的半导体纳米材料的制备成为
可能。
基于以上原因,本论文的工作将主要建立在使用化学气相沉积法制备氮化物
和氧化物半导体纳米材料的基础上。论文的工作主要包括以下几方面的内容:
1.具有锯齿状形貌的氮化镓纳米管的制备和发光研究
我们合成了锌掺杂的、并且有着锯齿状形貌的氮化镓纳米管。这种单晶的纳
米管有着六角形的截面,壁厚在10nrn左右。通过TEM成像和SAED衍射,我
1l
们确认这种纳米管有着交替的{01)极性面。纳米管是由沿着矛n[0001]方向共面,
并且以它作为对称轴的【1123】和【1123】这两个方向交替生长的基本单元构成。形
成这种锯齿状形貌的氮化镓纳米管是极性面相互作用的结果,因为{0T11)极性面
上正负电荷的交替排布有利于减少极性面之间的静电相互作用。
2.超薄单晶氧化铟纳米泡泡的制备和机理研究
我们首次制备了由非层状化合物氧化铟构成的单晶超薄壁纳米泡泡。通过
TEM分析,我们发现这些泡泡的壁厚仅为lnm左右,由3-4个原子层组成,泡泡
的直径为100nrll左右。和宏观体材料不同的是,我们观察到了单晶氧化铟纳米泡
泡的晶格条纹有较大弯曲。与层状材料不同,晶格形变会在非层状材料中引入巨
大的应变能,不过这个应变能随着晶体厚度的降低而急剧下降,从而使卷起一个
只有数个原子层厚度的层状或非层状材料所引入的应变能差别很小。以前报道的
类似封闭结构都是由层状材料形成,而由非层状材料组成的这种超薄壁的封闭结
摘要
构是第一次被制备。其生长机制为VLS生长过程中,催化液滴中的氮气累积吹出
液态气泡被氧化形成了超薄壁纳米泡泡。
3.一维氧化锡纳米线/纳米带的制备和机理研究
我们通过直接把源和衬底放在同一温区的方法,利用氮化镓的分解产生金属
Ga作为催化剂来催化生长超长的二氧化锡纳米线;利用直接金属Ga催化生长超
长的纳米线和超宽的纳米带。我们制备了沿着[0111方向生长的纳米带,但是它们
的宽面窄面和通常制备的纳米带不一样。我们还制备了不常见的沿着[0011方向生
长的纳米带,对于此类采用高指数的高能面作为宽面和窄面纳米带,我们从生长
机制予以解释。
关键词:氮化镓氧化铟氧化锡纳米泡泡纳米管纳米线化学气相沉积
ABSTRACT
ABSTRACT
Duetothe in andnitride
applications
Gallium Oxide,
Nitride,TinOxide,Indium
semiconductornanostructures(including
lotof
inthenanoscienceresearch.A methods,
attractedattention synthesis
ere.’l high
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