纳米磨料硬度对超光滑表面抛光粗糙度的影响.pdfVIP

维普资讯 第 15卷第 7期 中国有色金属学报 2005年 7月 V0I．15NO．7 TheChineseJournalofNonferrousMetals Ju1． 2005 文章编号 ：1004—0609(2005)07—1075—06 纳米磨料硬度对超光滑表面抛光粗糙度的影响① 陈志刚，陈 杨 (江苏工业学 院 材料系 ，常州 213016) 摘 要 ：通过均相沉淀法制备了纳米 CeO 和Al0。粉体，研究了在相同抛光条件下纳米 CeOz、AIzO。和SiOz 磨料对硅片的抛光效果 ，用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度。结果表明：纳米 CeO2 磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度，在 5g．m×5g．m范围内表面粗糙度 Rn值为 0．240nm，而且表面的微观 起伏更趋向于平缓；考虑了纳米磨料在抛光条件下所发生的自身变形，其变形量相当于一部分抵消了纳米磨料嵌 入基体材料的切削深度 ，而这个切削深度最终决定了抛光表面的粗糙度；分析指出这个变形量与纳米磨料的硬度 成反比，硬度低的纳米磨料 由于 自身变形量大，导致切削深度小，抛光后表面的粗糙度值低 。解释了在相同的抛 光条件下不同硬度的纳米磨料具有不同的抛光表面粗糙度的原因。 关键词 ：纳米磨料；硬度；粗糙度；超光滑表面；抛光 中图分类号 ：TG356．28 文献标识码 ：A Effectofhardnessofnano-sizedabrasiveson roughnessofpolishedsuper-smoothsurface CHEN Zhi—gang，CHEN Yang (DepartmentofMaterialsandEngineering，JiangsuPolytechnicUniversity， Changzhou213016，China) Abstract：Nano—powderofCeO2andAIz03werepreparedviahomogenousprecipitation，andthedifferentpolishing behaviorofnano-CeO2，nano—AIzO3and nan-oSi02abrasivesunderthe same polishing condition werestudied by atomicforcemicroscopy (AFM)．Thesurfaceroughnessofthewaferpolishedbynano-CeO2islowerthanthatpol— ishedbythenano-AI203andnano—SiO2，anditssurfaceundulation iSsmaller．Theinfluenceofthedeformationof theabrasiveparticleonpolishingmechanism isconsideredforthefirsttime．Thedeformationoftheabrasivecoun— teractspartofthecuttingdepthwhichdeterminestheroughnessofthepolishedsurface．Thedeformationamountis inproportiontothehardnessoftheabrasives．Thereasonwhy theabrasiveswithdifferenthardnesshasdifferent polish