β-FeSit;,2gt;薄膜的制备及FeSi多层膜的结构与互扩散研究.pdfVIP

摘要 摘要 以及Fe／Si多层膜的结构与互扩散。 采用离子束溅射Fe靶的方法在973 K的Si(111)衬底上得到厚度 为500 局部外延且与Si衬底的界面明显。 采用离子束分别溅射Fe靶和si靶的方法制备出4周期和10周期 nmFe／64 的【20 nmSi]多层膜，对多层膜在973K真空退火60分钟得到 厚度分别为360nlil和850 nln的单相13-FeSi2薄膜。 利用原位x射线衍射法进行了Fe／Si多层膜的结构和互扩散研究， 确定了调制波长、平均成分和界面粗糙度等参数，确定出Fe／Si多层 膜在低温退火过程中的互扩散系数为： K～623K) DL(丁)=4．53×10。2exp(-0．16eV／KBT)[m2／s](573 膜内相对高密度的界面为扩散原子提供了短程快扩散通道，这是扩散 激活能较小的主要原因，利用非平衡缺陷暂时捕获扩散原子的机制半 定量地解释了扩散过程中较小的前置系数现象。 对质子和电子综合辐照下Fe／Si多层膜的互扩散进行了研究，结 果表明：质子和电子综合辐照下的Fe／Si多层膜发生了原子迁移、重 排进而引起结构弛豫和晶化。随着辐照剂量增加，多层膜一级调制峰 显著下降，同时Fe非晶相最近邻原子间距减小，短程有序范围增加， 说明质子和电子综合辐照促进了Fe／Si多层膜的互扩散。 关键词13-FeSi2；反应沉积外延；互扩散；多层膜；质子电子综合辐照 查坐奎兰三耋堡圭兰堡篓苎 Abstract Inthis formmionofthe filmsand of papeL 13-FeSi2 interdiffusiontheFe／Si were mullilayersinvestigated diffraction，atomforce by employingX·ray and transmissionelectron microscopyhigh。resolution microscopy． The optimal of filmsreactive experimentalparameter13-FeSi2by deposition wasat973K．Itwas that filmwas onSi epitaxy provedB—FeSi2 successfullygrown substrateandtheinterface film betweenandsubstratewas sharp． The filmswiththethicknessof360nmand were monophase0-FeSi2 850nm also obtained and nmFe／64 successfullybypost-annealing4-period10-period[20