新型材料CNt;,Xgt;薄膜的制备结构和性能研究.pdfVIP

摘 要 ／自从Liu和Cohel1预言B．C3N4有可与金刚石比拟甚至更大的体弹 性番选后，对它的研究引起了物理、材料及化学工作者的极大兴趣。制 备假想的超硬材料B．C3N。成为材料科学研究热点之一。但直到今天为 止，人们还未找到行之有效的合成方法。目前的研究主要集中在高含氮 CN。薄膜的制备上。在非晶CN。薄膜的基体中，偶而也能发现8一C3N4微 。晶的踪迹。》 ，j。I作者采用射频反应溅射方法制备CN。薄膜。系统地研究了溅射条件 (溅射气体、溅射功率、衬底材料、衬底温度、衬底偏压等)对沉积cNx 薄膜的沉积速率、薄膜中氮原予浓度、薄膜的微观结构及物理性质的影 响。得到了用射频溅射方法制备高含量氮CN。薄膜的优化条件：6-8Pa的 氮气(N2)，不加或少加保护气体氩气(Ar)，200W左右的溅射功率， 尽可能低的衬底温度和对衬底不加负偏压。在优化条件附近，均能制备 出表面光滑，与衬底附着良好的高含氮c№薄膜。薄膜的生长速率达到 最大值50．3nm／min；薄膜中的氮原子浓度达到0．41，局部最大氮原子浓 度达o．47。馆前世界各国采用此种方法制备氮化碳薄膜中N原子浓度值 普遍低于01。 XPS检测结果表明，在优化条件附近生长的薄膜中的Cls和Nls光 电子结合能均发生了2eV以下的能移。Cls和Nls光电子结合能移均 随制各条件变化说明，N原子不是以自由原子态存在于薄膜中，而是与 碳原子相互作用形成化学键。C原子的芯能级移动与薄膜中N原予浓度 成正比。富里叶变换红外光谱检测到CNx薄膜中C—N、C=N、C=N 共存，另外还有C=C、C—O、c—H及N—H键，少量的氧来源于真空 室的背景大气，能为XPS所探测；H则来源于样品贮存在空气中时的表 面吸附而不能为XPS所探测。 电阻 CNx薄膜的能带结构具有半导体特征，光学能隙在leV左右 率在1旷Qcm以上。紫外一可见一近红光谱分析表明，CN。薄膜能强 烈地吸收紫外光，而对红外光几乎是透明的。可见光区的光学性质则随 着制备条件不同稍有差异。∑ 关键词t射频溅射，氮化碳薄膜，氮原子浓度，电子结构，物理性质。 ABSTRACT indicatedthe and that ofLiu Cohen theoretical since出e Ever study carbon existenceof nitride(B—C3N4)，many Dossible 8-phase superhard to this material．However, beenmade have hypothetical attempts synthesize ableto efforts nooneis successfully．nleongoing crystal