用于平面显示器极的ZnSAgZnS(DMD)纳米多层薄膜.pdfVIP

用于平面显示器透明电极的 ZnS／Ag／ZnS(D／M／D)纳米多层薄膜 摘要 采用真空蒸镀方法，本文成功地制备了用于交流薄膜电致发光 和良好的截止滤通特性，在可见光区域视觉透过率正。，z90％，在红外区 大屏幕、高清晰度平面显示器提供了关键元件。同时，本文还对Ag、 ZnS单层膜、Ag／ZnS双层膜的表面形貌、微结构和光电性能以及D／M／D 透明导电膜的结构设计、导电性能、光学性能及其影响因素进行了详细 的分析讨论。(其研究成果主要包括下面几个方面：一o 显示器的透明电极，以提高大屏幕、高清晰度平面显示器的质量指标。 2)根据特征矩阵理论，编制多层膜光学性能模拟计算程序，优化设 计了选择性透光多层膜结构。通过对单层Ag膜、ZnS膜和双层Ag／ZnS 薄膜的深入研究，取得了相应膜层形成连续薄膜的最小膜厚及其折射率 等设计参数，从而为成功设计和制备六组具有良好截止滤通性能的优选 结构(包括首次报道的非对称D／M／D多层膜结构)提供了可靠数据。 D／M／D纳米多层膜样品详细测定各自的透射谱，并结合计算机模拟计算 的透射谱，分析讨论了各膜层对多层膜光学性能的影响，首次发现多层 膜透射谱随ZnS层厚度的增加出现多级透射峰，而随D1和D2层厚度 变化所产生的多级透射峰截然不同，即两电介质层对多层膜光学性能的 影响是不同的，其中D2层厚度变化而造成的影响更大。 、 则以层片状形式生长，ZnS作为衬底膜有助于改善在其上生长的Ag膜 的表面平整度；并且发现若将AFM表面形貌观察与四探针表面电阻测 量法相结合可以迅速确定形成连续膜的最小膜厚；此外根据Drude自由 电子模型和并联电路模型，可利用所测得薄膜的光学性能来计算其导电 性能，为进一步设计优质透明导电多层膜提供了关键的参考数据。 体层。在加热条件下，Ag原子渗入ZnS层，使得该半导体层厚度进一 步增大，并且出现了Ag的硫化层。 6)对多层膜的热稳定性，首次讨论了D／M／D多层膜在非氧化和氧 化加热条件下结构和性能发生变化的机制，发现Ag层的厚度对D／M／D 在空气和真空加热条件下元件的最高临界温度。、上。． o… 、7 关键字：纳米多层膜，ZnS，Ag，淹明电极，椭圆偏振仪 』 J ．L～ 日业 一豕 乡 FoRTHE TRANSPARENT ELECTRODE ● FLAT IN DISPLAY APPLICATIoN ABSTACT In this forthe electrode has transparentin(ACTFEL)flat been vacuum displayapplicatio