原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
《电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用》.pdf
25 2 电 子 显 微 学 报 Vol-25, No12
2006 4 Journal of Chinese Electron Microscopy Society 2006-4
: 1000-6281(2006) 02-0097-07
1 2 3 3 1*
张 琨, 林 罡 , 刘 刚 , 田扬超, 王晓平
( 1 中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家 验室, 安徽 合肥 230026;
2 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点 验室, 江苏 南京210016;
3 中国科学技术大学合肥同步辐射国家 验室, 安徽 合肥 230026)
: 电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一, 它可以制备特征尺寸10nm 甚至更小的图形随着电
子束曝光机越来越多地进入科研领域, 它在微纳加工纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重
要的应用价值本文以几种常见的电子束曝光机为例, 说明电子束光刻的工作原理和关键技术, 并给出一些它在
纳米器件和微纳加工方面的应用 例
: 电子束光刻; 微纳加工; 纳米器件
+
: TN30517;TN405; TG115121 51 3 : A
2003 ,
100nm ,
, 65nm, ;
2009 157nm
[ 1, 2]
45nm
100nm , ,
, ,
, ,
, ,
,
1
KrFArF 20
[ 4~ 6]
, 60 ,
(RETs) ( NA ) ,
, ( OPC) ,
( PSM) ,
, 30nm
, :
, X , 1
, :
,
[ 3]
文档评论（0）