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电子工业用超纯水处理设备解决方案 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、 光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成 电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的 集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子 级水质技术分为五个行业标准，分别为 18MΩ.cm、15MΩ.cm、 10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质，同时伴有对 硅、尘粒、有机碳、微生物等物质含量的要求各不一。 电子工业用超纯水的工艺流程 电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种： 1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其 基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→原水箱→ 阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水 点 2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方 式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→反 渗透设备→原水箱→纯水泵→混床→后置精密过滤器→纯水箱 →用水点 3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭 配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保， 经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原 水→沙、碳过滤器→保安过滤器→一级反渗透设备→原水箱→二 级反渗透设备→纯水泵→电去离子(EDI)→纯水箱→输送泵→UV 灯→精混→精密过滤器→用水点 4、采用反渗透+混合床方式，其流程如下： 原水→原水加压泵→砂、碳过滤器→保安过滤器→反渗 透→中间水箱→中间水泵→混合床→微孔过滤器→用水点 莱特莱德哈尔滨水处理设备为您提供 电子工业用超纯水的应用领域 1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路; 2、超纯材料和超纯化学试剂; 3、实验室和中试车间; 4、汽车、家电表面抛光处理; 5、光电产品、液晶显示器 6、其他高科技精微产品; 表 1 显像管、液晶显示器用纯水水质 细 项电阻率 菌 微粒 TOC Na+ K+ Cu Fe Zn 目单 MΩ·cm 个 个/ml mg/L μg/Lμg/Lμg/Lμg/Lμg/L 位 (25t) /ml 黑白 显像 ≤10(Φ 管 ＞0.5μ) 彩色 ≥5 ≤5 ≤0.5≤10 ≤10 ≤8 ≤10 ≤10 ≤10(Φ 显像 ≥5 ≤1 ≤0.5≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ＞1μ) 管 ≥5 ≤1 ≤1 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10(Φ 液晶 ＞1μ) 显示 器 表 2 集成电路（DRAM）对纯水水质的要求[4][5][6] 集成电路（DRAM）集 16K 64K 256K 1M 4M 16M 成度 相邻线距（ μm） 4 2.2 1.8 1.2 0.8 0.5 直径（ μm） 0.4 0.2 0.2 0.1 0.08 0.05 微粒 个数（PCS/ml）＜100 ＜100 ＜20 ＜20 ＜10 ＜10 细菌（CFU/100ML） ＜