CoSi-%2c2-和ZrCr-%2c2-金属间化合物微结构高分辨透射电镜的研究.pdfVIP

CoSi2 和ZrCr2 金属间化合物微结构的高分辨透射电镜研究 摘 要 高分辨电子显微分析方法是从微观尺度认识和研究物质结构非常有力的手 段。现代高分辨透射电子显微术的发展，使我们可以在原子尺度研究材料的结构。 本文的主要内容就是应用高分辨透射电子显微术研究 CoSi2 和添加 5% at.Zr 的 CoSi2 溅射态非晶薄膜退火晶化过程中的微观组织结构特征；以及 ZrCr2 与添加 少量 V 的Zr(Cr,V)2 Laves 相金属间化合物的微观结构，并探讨合金化对 ZrCr2 Laves 相稳定性的作用机制。 透射电镜研究结果发现 CoSi 250 ℃退火态薄膜仍然保持纤维状组织形态的 2 非晶结构；350℃退火态薄膜发生部分晶化，晶化相为CoSi 和少量CoSi ，纤维 2 状组织特征没有变化；掺杂5% at. Zr 的CoSi2 550℃退火态薄膜发生晶化，晶化 相为单一 CoSi2 晶体，同时基本保持薄膜的纤维状组织形态；800℃退火态薄膜 得到 CoSi2 相，同时存在少量 ZrSi2 相析出，此时纤维状组织则转化为细小均匀 的等轴晶组织。 利用高分辨透射电子显微术对薄膜与Si 衬底界面结构进行原子尺度的观察， 在掺杂5% at. Zr 的CoSi2 550 ℃退火态薄膜和（100）Si 衬底界面处首次发现既 － － 有与Si 衬底成（100） ‖（100） 和[011] ‖[011] 相同位向关系的CoSi CoSi2 Si CoSi2 Si 2 －－ 界面反应物，同时也有以（111）或（111）为孪晶面与（100）Si 衬底成孪晶关 系的 CoSi2 界面反应物；800℃退火态薄膜与衬底界面处 CoSi2 界面反应物达到 _ 250nm ，其中存在取向关系为{111}112 的孪晶组织。 退火态ZrCr2 金属间化合物显微组织是C15 结构的单相组织，并且存在高密 _ 度的平行微孪晶组织，微孪晶具有{111}112 的取向关系，说明 C15 结构是 ZrCr2Laves 相稳定相。高分辨透射电镜观察和快速Fourier 变换分析表明退火态 Zr(Cr,V)2 为C36 (4H)结构，同时存在8H 堆垛结构和少量其它过渡性的多层堆垛 结构。这说明合金元素V 的加入降低了Zr(Cr,V)2 Laves 相金属间化合物C15 结 构的稳定性，并提高了C36 结构的稳定性；ZrCr Laves 相金属间化合物低的层 2 错能是导致退火态 Zr(Cr,V)2 中出现不同长周期堆垛结构与其它多层堆垛结构共 存的原因。 关键词：微结构，高分辨透射电子显微术，合金化，CoSi ，ZrCr 2 2 I HRTEM STUDY OF MICROSTRUCTURE IN CoSi AND ZrCr