TiB-%2c2-%2fSi-%2c3-N-%2c4-和TiB-%2c2-%2fc-BN纳米多层薄膜设计及结构和性能的研究.pdfVIP

中文摘要 摘 要 本文旨在利用超高真空离子束辅助沉积与射频磁控溅射技术在Si(100)及 列分析测试技术表征薄膜的结构特征和机械性能。揭示多层膜体系的结构，性能 以及工艺参数三者之间的相互关系，并寻求材料性能的改善和高温稳定性的提 高。本文系统研究了纳米多层膜中的微观结构与硬度、弹性模量、残余应力等力 学性能，摩擦系数等摩擦磨损性能，以及与调制比例、调制周期、退火温度、轰 击能量等诸多因素之间的关系。 了调制周期、调制比例、过渡层和基底温度等实验条件对薄膜结构和性能的影响。 通过低角xRD，SEM表征了薄膜调制结构，同时显示出清晰的多层膜界面。在 改变调制比并结合基底加热条件下合成的调制周期为11．8咖的多层膜，多层膜 表现出了明显的TiB2(100)，Si3N4(110)等结晶取向。硬度高达36．2GPa，较低残 余应力(2．5GPa)，较高的膜基结合强度(约为62．579mN)，同时多层膜的残余应 力，摩擦性能，以及膜基结合力也都明显优于单质薄膜。正交试验表明：多层膜 各项性能得到优化，调制比是影响性能的主要因素。最佳调制比例造成的互促效 应可能是结晶多元化和薄膜硬度升高的原因之一。 选取TiB2和c．BN作为个体层材料，利用射频磁控溅射技术在225℃下制备 一系列TiB2／c—BN纳米多层膜，研究了多层膜调制比，溅射功率，基底偏压，工 作气压和退火条件等实验参数与多层膜结构和机械性能的关系。低角xIm和 SEM表明薄膜具有界面清晰的多层结构。通过单层实验得到影响c．BN单层膜性 能的主要因素为调制比例和溅射功率两个因素。而且多层膜对调制周期和比例的 要求非常苛刻，并在最佳配比：基底温度225℃，调制周期24啪，TiB2和c．BN 调制比13：1，过渡层沉积时间1200 磨结构薄膜。特别是对高温结构和性能的研究发现：在700℃时，纳米多层膜依 旧表现出了32GPa以上的纳米硬度。新型超硬TiB2／c．BN纳米多膜具有高硬度、 较低残余应力，摩擦系数小，高膜基结合力和热稳定性的优良综合特性。 中文摘要 以上研究结果证明：利用正交试验优化实验条件，离子束辅助沉积技术可以 制备机械性能优良的TiB2／Si3N4多层膜；利用退火实验，射频磁控溅射技术可以 制备机械性能优良的TiB2／c．BN多层膜，同时具有良好的高温性能。通过比较各 种实验条件和工艺参数，在得到多层膜晟佳工艺参数，合成具有高硬度，高弹性 模量、良好的膜基结合力和低残余应力的纳米多层膜的同时，通过讨论工艺参数、 中的应用提供了有价值的实验和理论数据。新型纳米多层膜在刀刃具、模具表面 强化薄膜中将有重要的应用前景，这将有效提高机械加工效率，对我国的切削刀 具技术的提高具有重要意义。 多层膜，机械性能，高温稳定性。 n 英文摘要 ABSTRACT This tlle of and TiB2／c-BN p印err印orteddesi髓alldsynmesisTiB2／Si3N4 nanoscale on multilayeredcoatin黟winlbilayer Si(1OO)锄dA1203(111)using period on aIld ultmli曲VaC删mma印e仃0nSputt甜ngIBAD．X—ra【ydif‰tion(Ⅺm)觚d electron t0 and scallIling microscopy(SEM)wereen叩loyedi11Vestigatelayered stnlctureofthe mechanjcal oftlle