物理气相沉积真空镀膜设备介绍资料.docVIP

  • 11
  • 0
  • 约 16页
  • 2016-03-02 发布于湖北
  • 举报

物理气相沉积真空镀膜设备介绍资料.doc

物理气相沉积真空镀膜设备介绍 (上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系,上海 200444) 摘要:本文主要介绍了五类物理气相沉积的真空镀膜设备。五种设备分别为:电阻式蒸发装置、电子束蒸发装置、电弧蒸发装置、激光蒸发装置以及空心阴极蒸发装置。介绍了相关设备的原理,优缺点等。其中,着重列出了有关电子束蒸发装置的其中一个应用,是厚度为200μm左右的独立式的铁铬-Y2O3非晶态/晶态复合涂层的已经从基板温度500oC左右的铁铬和氧化钇材料的电子束物理气相沉积产生。 Abstract:It describes the five physical vapor deposition vacuum coating equipment in this article.Five kinds of equipment are: resistive evaporation apparatus, an electron beam evaporation apparatus, arc evaporation apparatus, laser evaporation apparatus and a hollow cathode evaporation apparatus.It introduces the principle of related equipment, advantages and dis

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档