界面与表面技术---薄膜详解.pptVIP

功能薄膜材料 薄膜技术是上世纪70年代开始迅速发展起来的一门科学，其研究涉及表面科学、材料科学、应用物理、微电子学、电子技术、真空技术等多个领域。 表面科学研究的范围通常是材料表面几个到几十个原子层，薄膜物理研究的范围通常是几十埃到几十个μm。 定义——通常认为l um以下厚度的膜为薄膜，以上者为厚膜。 薄膜材料的制备方法 物理方法 — 真空蒸发 — 磁控溅射 —离子束溅射 化学方法 — 化学气相沉积（CVD） —溶胶凝胶（Sol-Gel）法 物理气相沉积方法 气相沉积的基本过程 气相物质的产生: 一般用蒸发蒸镀和溅射镀膜的方法来实现。 气相物质的输运: 要求在真空中进行 气相物质的沉积: 是一个凝聚过程。根据不同条件，可以形成非晶态膜、多晶膜或单晶膜。 物理气相沉积（PVD）优点： ①沉积温度低,应用范围广 ②热变形小,可应用于精密部件(刀具、模具) ③没有废气排放，绿色环保 物理气相沉积（PVD）类型 真空蒸镀（Evaporation Deposition） 离子镀(Ion Plating) 溅射沉积(Sputtering) （1）真空蒸镀 镀材以热蒸发原子或分子的形式沉积成膜。 真空蒸镀的基本过程是：用真空抽气系统对密封的钟罩进行抽气，当真空度达到0.13Pa时，通过蒸发源对蒸发材料进行加热，使蒸发材料气化后