网站大量收购闲置独家精品文档,联系QQ:2885784924

微电子器件与电路_复习_习题课_B讲解.ppt

  1. 1、本文档共100页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
微电子器件与电路_复习_习题课_B讲解.ppt

微电子器件与电路 复习、习题课 华侨大学信息学院 杨骁 费米能级 费米能级 在一定的温度热平衡状态下,电子按能级大小具有一定的统计分布规律,即电子在不同的能量的量子态上统计分布几率是一定的。 晶体中的电子遵循费米-狄拉克统计分布规律。费米-狄拉克统计分布函数为: 它反映的是能量为E的一个量子态被一个电子占据的几率。而EF则称为费米能级 (Fermi) 热平衡条件下电子浓度 热平衡条件下空穴浓度 简并与非简并半导体 当导带电子(价带空穴)浓度超过了状态密度Nc(Nv)时,费米能级位于导带(价带)内部,称这种半导体为n(p)型简并半导体。 本征半导体载流子浓度 本征半导体载流子浓度 半导体中的补偿效应 补偿半导体:在同一区域同时含有施主杂质和受主杂质原子的半导体。当半导体材料中的某一区域既掺有施主杂质,又掺有受主杂质,这时就会发生杂质的补偿效应。 可以通过向n型材料扩散受主杂质或向p型材料扩散施主杂质来形成补偿半导体。 当NDNA时,形成n型补偿半导体; 当NAND时,形成p型补偿半导体; 当ND=NA时,形成完全补偿半导体。 电子浓度和空穴浓度简化计算 电子浓度和空穴浓度简化计算 习题: 1.室温下有一块半导体材料掺有的杂质 ⑴请判断该半导体是N型半导体还是P型半导体。 ⑵请计算出电子和空穴的浓度 从两种散射机制上来看:在低温下,晶格振动较弱,因而晶格散射较弱,迁移率受电离杂质散射作用更为明显;在高温下,晶格振动较强,载流子运动速度较快,电离杂质散射作用减弱。 漂移电流密度 载流子的输运: 迁移率与扩散系数 习题1 习题2 习题4 ⑴计算本征硅在室温时的电阻率;⑵ 但掺入百万分之一的砷(As)后,如杂质全部电离,计算其电导率比本征硅的电导率增大多少倍。 (电子和空穴的迁移率分别为1350cm2/(V.s)和500 cm2/(V.s),假使在杂质浓度小于1×1017cm-3时电子的迁移率为850 cm2/(V.s),ni=1.5×1010cm-3,硅的原子密度为5×1022cm-3。) 习题5.22 5.24 非平衡载流子的寿命 ? 非平衡载流子在半导体中的平均生存时间称为非平衡载流子寿命,用τ表示。 1/τ称为非平衡载流子的复合几率 单位时间单位体积内复合消失的电子空穴对数目称为复合率R,可表示为:?n/τ 小注入条件:非平衡载流子的产生和复合 P型半导体: 正偏PN结:过剩载流子 热平衡PN结边界条件 正偏PN结边界载流子浓度 加正向偏压后,空间电荷区势垒高度降低,内建电场减弱 正偏PN结边界载流子浓度 例8.1 反偏PN结边界载流子浓度 注入到p(n)型区中的电子(空穴)会进一步扩散和复合,因此公式给出的实际上是耗尽区边界处的非平衡少数载流子浓度。 上述边界条件虽然是根据pn结正偏条件导出的,但是对于反偏情况也是适用的。因而当反偏电压足够高时,从上述两式可见,耗尽区边界处的少数载流子浓度基本为零。 假设有个Si材料的PN结二极管,室温为T=300K,其电场分布如图2所示 1)计算该PN结的内建电势差 2)估算外界偏压VD的大小,并且判断该PN结处于正偏还是反偏。 3)计算该PN结的耗尽区电容大小。 * PN结小信号模型:反偏PN结势垒电容 当pn结上外加的反向偏压改变时,pn结中耗尽区的宽度也发生变化,因此pn结两侧耗尽区中的电荷也会随之而发生改变,这种充放电作用就是pn结的电容效应。 空间电荷区宽度随反偏电压改变的微分变量 截面积为 的圆柱形纯Si样品,长1mm,接于 10V电源上,室温下希望通过0.1A的电流,问: ⑴样品的电阻为多少? ⑵样品的电导率是多少? ⑶应掺入为多少的施主?( ) 解答: ⑴ ⑵ ⑶ 在半导体锗材料中,掺入施主杂质浓度ND=1014cm-3, 受主杂质 浓度NA=7×1013cm-3,设室温下本征锗的电阻率为60Ω.cm, 假设电子和空穴的迁移率分别为μn=3600cm2/Vs,μp=1800 cm2/Vs,如流过样品的电流密度为52.3mA/cm2, 求所加的电场 强度。 (提示:假设迁移率不变,杂质完全电离,先求ni,由电中型条件 和n0×p0=ni2求n0和p0,再求电导率和电场) 解: , 习题3 所以,样品的电导率为: 过剩少数载流子电子的复合率定义为: 过剩多数载流子电子的复合率 N型半导体: 过剩多数载流子电子的复合率定义为: 过剩少数载流子电子的复合率 注意过剩少数载流子寿命和多数载流子浓度有关 则N型半导体少子(空穴)浓度随时间和空间的的变化率: 扩散 漂移项 漂移扩散耦合项 其它 产生 复合 空穴随时间的变

文档评论(0)

挑战不可能 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档