硅一轮复习精要.ppt

B √ √ √ × √ 4．(2009·广东理基，22)下列关于硅单质及其化合物的说法正确的是(　　) ①硅是构成一些岩石和矿物的基本元素　②水泥、玻璃、水晶饰物都是硅酸盐制品　③高纯度的硅单质广泛用于制作光导纤维　④陶瓷是人类应用很早的硅酸盐材料 A．①② B．②③ C．①④ D．③④ C 5. (2009·重庆理综，6)材料与化学密切相关，表中对应关系错误的是 (　　) 材料 主要化学成分 A 刚玉、金刚石 三氧化二铝 B 大理石、石灰石 碳酸钙 C 普通水泥、普通玻璃 硅酸盐 D 沙子、石英 二氧化硅 A 6. (2009·四川理综，6)开发新材料是现代科技发展的方向之一。下列有关材料的说法正确的是 (　　) A.氮化硅陶瓷是新型无机非金属材料 B.C60属于原子晶体，用于制造纳米材料 C.纤维素乙酸酯属于天然高分子材料 D.单晶硅常用于制造光导纤维 A 7. (2007·广东，6)下列说法正确的是 (　　) A.硅材料广泛应用于光纤通讯 B.工艺师利用盐酸刻蚀石英制作艺术品 C.水晶项链和餐桌上的瓷盘都是硅酸盐制品 D.粗硅制备单晶硅不涉及氧化还原反应 A 8. (2010·上海，23改编)胃舒平主要成分是氢氧化铝，同时含有三硅酸镁(Mg2Si3O8·nH2O)等化合物。 (1)三硅酸镁的氧化物形式为____________。 (2) Al2O3、MgO和SiO2都可以制耐火材料，其原因是______。 a.Al2O3、MgO和SiO2都不溶于水 b.Al2O3、MgO和SiO2都是白色固体 c.Al2O3、MgO和SiO2都是氧化物 d.Al2O3、MgO和SiO2都有很高的熔点 答案　(1)2MgO·3SiO2·nH2O (2)ad C 9、 （1） （2） 题组三　化工工艺流程分析 10. (2008·广东，23)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题： (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下： ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________。 ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式_____________________； H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是_____ . 返回 SiHCl3→H2SiO3 +2 +4 11、晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下： ①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅 ②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3： Si＋3HCl=========SiHCl3＋H2 ③SiHCl3与过量H2在1 000～1 100℃反应制得纯硅 已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。 300℃ 请回答下列问题： (1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为___________。 (2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点－84.7℃)，提纯SiHCl3采用的方法为___________________。 (3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)： ①装置B中的试剂是_______________________。 装置C中的烧瓶需要加热，其目的是___________。 ②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是________， 装置D不能采用普通玻璃管的原因是______ ， 装置D中发生反应的化学方程式为_______________________。 ③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及_______ 。 ④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是______。 a.碘水　 b.氯水　 c.NaOH溶液　 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液 高温 解析　(1)根据题给信息，粗硅可以用碳还原二氧化硅的办法来制得，故反应方程式为SiO2＋2C=====Si＋2CO↑； (2)因HCl易溶于水，而SiHCl3与H2O强烈反应，故提纯SiHCl3的方法只能在无水的条件下利用它们的沸点不同，采用分馏的方法进行；