氮化硅（Si3N4）微粉的超高压烧结研究.pdfVIP

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2016-03-23 发布于湖北
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氮化硅（Si3N4）微粉的超高压烧结研究.pdf

Γ 第 5卷第 4期高压物理学报 Vd.5,No,4 1991年 12月 CHIblEsE JOURNAL OF HIGH PREsSURE PHYsICs Dec. ,1991 艹 6ⅠsN4)微的超压烧研究氮化硅粉高结艹+ 继世超刘勇黄振坤沈中毅孙荣刘 (中国科学院物理研究所 ,北京 100080) 6i3N刂)是良能的陶瓷材料 ,具有广泛的工程应用前景。但由于这描要氮化硅具有优性。探种化合物属于共价结合性质并具有很高的熔点 ,陶瓷的烧结需要在很高的温度下进行本文 AlN,A120:及 La2o3添讨了在超高压力下这种材料的烧结行为的变化。对含有少量加物的 C的 ,并应用 X线衍射 ,扫描电子 3~7GPa,800~2000° 进 ⒏ 压力温度范围内行烧结 3N4微粉在了结样品。结果表明高压力可以大大促进 s1:N犭的 α β 显微镜观察及密度测量等方法研究烧一。压烧结过程分为两个阶段 :低温下以粉末粒子结合为主转变及固相反应 ,降低烧结温度高下。 ,超高压力下烧结没固反应为主的过程研究表明的和相内的过程及高温下各物相间相变要容有改变所研究组份样品的复合相组成。关馁词烧结氮化硅陶瓷高压力效应、一引 (sisN亻 (20~40MPa)下泛的化硅 )系列陶瓷一般是在常压或较低压力烧应用非常广氮。照人对要求性能进行预先的成份设计 ,在烧结过程中物料各种