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表面工程学2 2.1概述 离子轰击热处理是:用辉光放电产生的离子来轰击工件表面,使工件表面层的成分,组织结构及性能发生变化的热处理工艺. 辉光放电产生的等离子体:包括正离子,负离子,分子,中性原子,电子,光子等各种粒子的聚合体,带电的粒子在电场的作用下,作定向运动. 具有足够能量的电子或离子与气体原子或分子碰撞,使后者处于激发状态,产生活性原子或使它们电离,只有活性原子或离子才能被工件表面吸附,进入金属内部. 离子热处理时,在阳极与阴极之间充有低压气体如氮气,氢气,氨气,甲烷等,压力小于1.33×103pa,两极间加直流电压,产生辉光放电. 典型的辉光放电伏---安特性曲线,如图所示 1,2,3区放电时电流很小,很少应用,4区放电随电功率增加,电流增加,但电压不变,因此,正常辉光放电不能使辉光覆盖整个阴极表面.在更大的功率下,电流和电压同时增加,进入异常辉光放电区,该区的特点是辉光能全部覆盖阴极表面,这是工件获得均匀渗层的重要因素.因此,一般离子氮化离子渗碳,都在异常辉光放电区进行.而弧光放电区是低压大电流,它用于金属的焊接和熔融.在离子热处理中应避免的. 辉光放电时,在阴,阳极附近存在,阴极压降区,阳极压降区.此两区电场强度高.正离子在阴极压降区被加速,具有较高的动能,向阴极高速运动,轰击工件表面,中性离子通过与离子的碰撞也获得高的动能,与离子一起形成流向工件的高能离子流,同时,电子穿过阳极压降区而被加速,轰击阳极表面,使阳极温度升高. 在图所示负辉光区与气体分子碰撞,而使其处于激发状态,产生放电,发光即辉光放电现象. 高能粒子轰击工件表面,产生如下几种效应 1)粒子的大量动能转换为热能,使工件表面升温. 2)高能粒子轰击作用,使其可直接注入工件表面. 3)高速粒子轰击产生溅射作用使表面净化,消除表面吸附层及氧化物,减轻钝化层对反应的阻碍作用,使表面处于活化状态. 2.2离子氮化 2.2.1离子氮化装置 目前多采用钟罩式.井式 真空系统:由真空泵和带夹层的钟罩,炉地板构成两着之间用真空橡皮圈密封,工作时将工作室抽成真空.夹层水冷耗能大(冷壁型),改用热壁型,夹层由金属薄板和非金属的隔热纤维,石墨毡组成组成隔热层,具有显著的节能效果. 供电系统:连续可调的高压直流电源. 共气系统:用流量计阀们控制工作气体,所需的供气量,送入工作室. 测温装置:柔性铠装式热电偶.铠装起屏蔽作用,避免弧打,但反映的温度比实际温度低,测温不准.如果采用光电温度计间接测量,则能提高测温的准确性. 2.2.2离子氮化机理 1)阴极溅射模型 如图 由于阴极附近存在压降区,具有高能量的H+N+轰击工件表面,一部分离子直接渗入工件表面,另一部分通过阴极溅射从工件表面敲击电子及Fe,O等元素,溅射出的Fe原子与活性氮原子结合,形成FeN化合物,被工件表面吸附,FeN化合物在受到高温和离子轰击的作用,按FeN→Fe2N→Fe3N→Fe4N顺序分解为低价氮化铁. 同时析出氮原子,一部分氮原子向工件表面渗入,另一部分飞散等离子体体中与重新溅射出的Fe原子结合,上述现象反复进行,实现氮化. H+,N+轰击工件表面,加热工件,此外H+还可以还原或溅射工件表面的氧化物中氧原子,净化和活化工件的表面,离子的轰击还使材料表面生成晶格缺陷,促进氮的扩散. 2)碰撞解离-----中性原子渗入模型 该模型认为,离子氮化中氮原子从气相到固相的原子迁移,主要通过碰撞解离产生大量的活性氮原子渗入工件表面实现的. 根据辉光放电理论,到达阴极的正离子主要是在阴极压降区产生的,在阴极压降区正离子电荷密度为:UK/2λdK UK为阴极压降; dK为阴极压降区的宽度; λ 为正离子平均自由程,一般的氮化条件:电压几百伏,气压133~1330Pa.温度380~800K.推算103~1011离子数/Cm3,中性原子密度则PV/RT 推算,中性原子数1016~1017个/Cm3,中性原子数远远超过正离子数. 高能正离子通过非弹性碰撞解离N2和NHJ,产生大量的活性氮原子,从而产生显著的渗氮效果. 该模型除强调中性原子对氮化所起的主要作用外,也指出氢的作用,氢原子有强烈的还原作用和溅射能力,有助于去除钝化膜活化工件表面. 2.2.3各种工艺参数对渗层组织影响 通常离子氮化层可能出现以下四种典型的组织 1) 只有扩散层 2) γ`化合物(Fe4N)+扩散层 3) ε化合物+ 扩散层 4) ε化合物+ γ`化合物+扩散层 γ`化合物韧性好,强度高,单相γ`化合物主要用于承受较大的动载荷,又要求耐磨的工作条件. ε化合物耐磨性,耐蚀性好,但脆性大.单相ε化合物主要用于耐磨\耐蚀. 纯扩散层组织,主要用于不增加脆性的模具钢. ε化合物+ γ`化合物+扩散层具有综合优点. 普通氮化ε+ γ`+